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2 ~: a# z, y; o7 v* X# O     室温/低温近场光学显微镜（SNOM） 各种SPM探针
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) S- T7 M6 k9 `9 }     电子束直写装置 (EBL)            无需掩膜的光刻系统
     纳米压印 (NIL)                     激光直写系统   
     激光速度位移振动测试仪
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. G. ~5 t/ D4 |* l! ]! ?     原子层沉积 (ALD)                 脉冲激光沉积（PLD）  
! }) K1 M$ ]5 D' O6 K: N" w     脉冲等离子体沉积(PPD)           有机分子束沉积(OMBD)   
( |6 m( i- i! p9 D0 A6 e     纳米团簇制备系统                  微波等离子体增强CVD(MPECVD)   
     金属有机化学气相沉积（MOCVD）   溅射涂膜系统           
8 |/ u8 C% a) J8 J) J     热蒸发/电子束蒸发系统             反应离子刻蚀系统（RIE、DRIE)
" v) W) @' z- h: W2 j2 s     离子束刻蚀与辅助沉积系统        等离子体增强CVD(PECVD)   
     LPCVD                                UHV-CVD   
     等离子体表面活化清洁系统        无损巨超声波化学清洁系统
     划片机(Scriber & Pliers)
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& N) H3 T* o, t; m* e" N4 P     圆二色光谱仪（CD）              停止流动（Stopped Flow）   
) J% A2 e; o" `! _0 K5 G     粒度/ζ电位仪
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3 c4 u* f% _5 W5 `2 T$ A' O     PCT测试仪                            椭偏仪   
     铁电/压电/热释电测量分析仪      OLED光电流与寿命测试仪   
0 @4 k6 [5 ]6 |' S+ ^# O) ^     深能级瞬态谱仪 (DLTS)            振动样品磁强计 (VSM)   
" R( Z) |# I3 q5 i     磁光克尔效应磁性参数测量仪      磁性测量设备   
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