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Essential Macleod光学薄膜软件功能说明7 s9 t& v$ F, `4 T
软件介绍
/ v7 F- e. e0 ?1 J: U' z( jEssential Macleod麦克劳德是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在微软视窗操作系统下运行， 并且具有真正的多文档操作界面。它能满足光学镀膜设计中的各种要求。既可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以观测在设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。
$ ~4 L }/ c: w/ g6 i& P0 i1. 它是一款光学薄膜设计和分析软件，
7 t& F+ c8 l' w8 N& q/ @! b4 D2. 可以计算给定光学薄膜的特性参数，不但包括反射率(reflectance)、透射率(transmittance)和位相(phase),颜色(color)等20多种特性参数。 # |; `; n0 B$ z$ K( Q
3. 可以估算分析中的随机误差，; h- a7 d) K; Y( E
4. 可以对已知的设计进行改进，或者根据设定的材料和目标进行综合设计。& j& i9 O$ B. i7 f
5. 可以对镀膜过程进行仿真。
* f5 [% s& K) J6. 方便创建或编辑各种薄膜，
' P! O8 d1 n7 A4 `$ Y7. 带有各种薄膜材料和基底材料库，3 _" M4 [0 n# V) X. w/ z
8. 可以灵活地使用不同的单位，
( |. K7 v1 Y' u( o7 w5 M! p$ @/ B5 E9. 根据测量的光谱结果，创建新的材料，
: j) {1 [0 X9 e1 B10. 设计结果可以输出到光学设计软件ZEMAX、Code V及光通信软件Rsoft中去。
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* g$ o7 C7 |, ]3 _# v/ a" d软件特点
' A& y& w) ~& d• 使用简便： 常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质量曲线；真正的多文档界面；9 g% ^0 v! d3 h1 p7 E/ T! I9 |) @
• 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单位；
7 i+ l- \! [3 t0 C1 n: H• 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。0 F9 ?+ M3 P2 i& t5 |- z
• 优化及合成：Optimac；Simplex；Simulated Annealing；Conjugate Gradient；Needle Synthesis；Quasi-Newton；. z/ _+ Z8 M; d- n) U
• 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源输入目标数据；链接；/ b5 r1 @9 V1 X3 [
• 分析和设计工具：导纳图表；反射系数图表；绝对电场幅度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin）计算；
' J. i' i5 t$ {+ A2 b* _• 性能计算：反射系数；透射系数；反射相位；透射相位；密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色散；一价、二价、三价导数。公差同波长、频率、入射角、膜厚关系函数；
. @: C/ U/ q. d* Z& U7 R$ W9 _• 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用户可定义的观测；3 T7 h. A" }+ `- B
• 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器；
! J- z! `8 ^0 ~' b/ X
" f' t+ \2 q6 h( y7 h系统需要3 x4 ~* i4 q9 ` S6 c5 f1 b# @
• 完全与Microsoft® Windows® 操作系统兼容，1 h+ f% I2 r0 G" C5 j( R. F& K
• Pentium 处理器
+ |2 ^; V; O9 P" F& g9 X• 建议硬盘空间： 20-25Mb
4 m, | N! U! l2 J• 内存：128Mb
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: {4 g! c3 n+ [; A$ VEssential Macleod模块7 j& R6 Z0 C; z5 d2 L4 T
Essential Macleod包含多个模块：/ u6 i" |# E1 [8 N
(1) Core: 设计编辑器,数据、目标等编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合(Refinement ，synthesis), ; c1 c8 r- R8 ?1 ]
(2) vStack:计算非平行但法线共面的膜系的特性， 1 C% k5 O2 e% Y5 \3 b$ O& M
(3) Runsheet:设计数据转换到生产控制程序中去。对给定的镀膜机，控制薄膜沉积过程。 它会列出用于追踪沉积过程的信号的预期过程。通常是监控器的输出信号，晶振或光，或者二者。
7 R+ `# i% |$ f. S2 d/ O+ Y+ E(4) Monitorlink:提供与所支持的控制器的通信的免费标准工具。它是特殊的Runsheet配置，输出监控程序，与特定控制器连接，4 G5 Z5 Y, Y$ Q1 l7 [
(5) Function:将Core产生的数据，在更大的范围的附加操作，延伸其功能范围。
9 X) v1 d% G7 u: C(6) Simulator:是关于模拟光学镀膜的生产，模拟光控和晶控的动作。 是一个沉积过程仿真器，
6 B" G+ o+ e. e* J6 R! S(7) DWDM Assistant: 窄带滤波器设计。主要是光通信应用，全部是1/4 波长组成，是严格的1/4波长倍数的膜系。
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设计工具
# b9 X% p( g9 M; IEssential Macleod提供一个多样化的工具支持设计过程. 编辑工具使设计操作更容易。这些工具包括：膜层逆转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的角度，不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。强大的工具编辑提供必要的规格、材料数据、表格和图表。
! d- u5 i3 t6 b/ x7 S设计工具还包括透射滤光器设计、非极性化边缘滤光器和平衡膜层（Herpin）参数的计算。透射滤光器工具计算对指定的金属膜可能的透射率和相应1/4波长非导电性介质膜的滤光的厚度要求。它也可以用在简单的测量特殊吸收材料在规定厚度的最大透光率。非极性化边缘滤光器工具创建一个五层两种材料的对称结构的初始设计，最外的膜层随后能被优化成相配的滤光设计。
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3 R, |6 V2 d0 ~8 e& f性能计算
4 C0 W7 u9 S Z7 g) I" ?& B0 V6 oEssential Macleod 提供了一套完备的性能计算功能。除了一般反射和透射计算外，还包括：密度﹑吸收率﹑椭偏参数﹑超快参数 ( 群时延 ﹑群时延色散﹑三阶色散 ) 和光的色散，此外，也可以应用于色彩计算。公差计算可使用户判定厚度微小变化对设计影响。; S; j5 c8 D) x F
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分析工具
' ~$ z) L# X6 n$ o5 U) l分析工具包括导纳图标法、环性（反射系数）图标法、电场图法。电场图计算绝对的电场幅度，提供了几个膜层能量吸收的比较信息，因此评估有关的可能损失，或者同一膜层在不同波长下的能量吸收。导纳轨迹法以及环形图法则可帮使用者了解设计是如何进行的， 通过导纳或者复振幅系数的从系统中的后层到前层的转换，这种方法将不同膜层的作用转换至一层单层膜，由此可以被视做一套完整的直观记录方法。- B$ }4 X% b' H5 d$ j( Y* \) T4 \
4 S/ n5 ^. h( |$ c3 p. q }
优化 （Refinement）' h* c7 d: ^9 { Q1 u$ ?( x
Essential Macleod 提供了 Optimac 、非线性纯化法（ Nonlinear Simplex ） 、模拟退火法（ Simulated Annealing ） 等优化方法。在一般条件下，OptiMac 功能强大，推荐使用这种优化法；而 Simplex 则较为快速和稳定；作为一种统计型方法， Simulated Annealing 在阻抗型的情况里会很有效，但相对耗时。Conjugate Gradient和 Quasi-Newton优化方法，它们是用微分信息(derivative information )进行 优化。在优化的工程中，我们可以锁定（Lock）某些膜层，使其厚度无法改变。 Linking可以步骤式改变厚度。优化目标可以以需计算的性能参数来定义，例如：颜色，波长（或频率）、入射角、以及公差。对象连接使得更加复杂的优化功能得以实现。对于不同波长和不同入射角的情况而言，目标发生器可协助创建多目标。 c) N3 K- w- }/ _1 U* H
( O2 X$ o/ ~" X$ w' E% O" c+ y* L
合成（synthesis）
7 [: k, j: b/ W% E* f6 gOptimac 技术也可以在合成模块里操作，为了达到需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。合成也可用于改善现有的设计，或者从一个材料清单和规格里产生设计。 Optimac是可存档的。它记录优化设计的完整历史，从而允许在膜系的性能和复杂性间寻找平衡点。Needle synthesis方法是增加膜层。
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) p/ |: ? y8 E \逆向工程# ]3 [ v8 a. O- t3 j
Essential Macleod 可对在制造过程中生成的误差提供鉴定支持；这方面支持是通过单一优化法的改进而达到的。单一优化法可对折射率和厚度进行优化。通过各种方式对不同方面的约束，分析找出制造过程中的误差和其他问题。这些约束条件可以逐渐改变或者取消，以得到最后的解决方案，并确定可能误差的性质和大小。而折射率的变化是由堆砌密度改变来表征。
* B" f. A/ |/ Y8 E0 P+ B
7 J3 q' A( r& O7 O" H- rn、k值导出
+ m' c4 M& S+ ?/ l虽然 Essential Macleod 提供了一套完整的材料数据库，但是通常对于某一特定的镀膜厂家，数据库中材料的光学参数同实际薄膜的参数不尽相同的。 针对这种情况，根据分光光度计对测试薄膜的折射率和透射率的测量结果， N&K 导出法可方便地导出 n 与 k 的值。这里采用的包络线方法十分稳定。这种方法采用“全透射”，“全反射”或者透射和反射的数据。根据得到的数据，可以检测出膜层的非均匀性，吸收或者同时两方面的结果。* N- U, q6 |) i, Z, N2 L: D* w
. s9 Q* k) S7 A0 J用户定义单位& ~ E0 H1 _% ]5 l) |
单位是用户经常碰到的一个问题，但是在Essential Macleod 不是问题，单位可自定义选择。如：频率可以采用电子伏特、千兆赫、波数；波长可选埃、纳米、微米甚至微英寸。% B; b0 _1 G$ B3 b' Q2 Y
' h9 s5 q+ n; B& F9 |
颜色计算
1 ^6 U6 W1 N: W. u• 颜色计算提供最通用的颜色空间：
/ [" {* J- F! D• Tristimulus
/ L5 F3 t4 L4 [* @9 _) }$ j• Chromaticity
, W" `& C$ {( r6 o• CIE L*a*b* & ]2 P: h' N5 j' R: c7 K5 R. Z
• CIE L*u*v* - ]+ ^8 v; t" B9 ^
• Hunter Lab ( I: ]% N9 Y: E+ f
• 光源的挑选可根据需要预先定义。 CIE 1931 和 1964颜色匹配功能也包括在里面，其次你可以定义你要求的其他颜色。颜色也可以作为一个优化和合成的目标列入清单，计算透射和反射颜色。
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光学组件（Stack）4 R, j! y* P( M
多数镀膜光学元件最少有两个面，一个滤光器组件或混合膜层透镜有许多面，基底可能吸收某些波长的光，Essential Macleod 有一个计算多膜层和多基底系列组件性能的工具。一个有效的编辑器将元件组和成一个堆，它由多组镀膜和无镀层的吸收滤光片组成，表面可以是平行或者楔型。材料的表现不是总在最理想状态并且光学参数经常依赖特定的镀膜机和沉积的参数。工作条件也影响材料性能，比如：一个冷红外滤光片的工作性能可以跟其室温时的性能有很大的不同。因此多材料数据库，可以使设计很容易的从一个材料库到另一个，以研究温度和镀膜环境的影响。多材料数据库还有别的优势，例如：它允许材料数据只属于某一个委托人， 受到隔离和保护。; r+ Y, Y2 } _( F
3 g- ^, v+ t+ K5 [4 `材料管理4 i3 E) L4 }. |) [, G6 v
实际材料会发生与波长有关的光学参数色散。实时计算必须考虑到这些变化。每一种材质都以数据表存储，该数据表包括随波长改变的折射率和消光系数，这使得我们可以对任一种色散建模。诸如样条插值法（ Spline Interpolation ）等功能强大的编辑工具结合输入 / 输出功能后使得 Essential Macleod 简单易用5 @9 z# _: j3 ?6 k; m
a( O* O. J8 V4 L: q公差0 k$ Q4 S$ H/ n: T' ~+ e
Essential Macleod's公差容量允许研究设计对制造误差的敏感性。改变设计并进行可以比较，从而选择最好的设计，尽管设计可能类似，但他们的对制造误差的敏感性不同。 |
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发表于 2010-11-30 06:03:05
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