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由讯技光电（上海）科技公司代理的这款光学薄膜软件; C( M2 f! K- {" w" H
The Essential Macleod
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Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位微软窗口环境操作系统下运行， 并且具有真正的多文档操作界面。它能满足光学镀膜设计中的各种要求。既可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。
7 q7 }. C! Y% Z7 W% Q: yEssential Macleod的核心模块功能：
& P4 z5 [ {& X3 V3 Q• 计算给定膜系的特性; ( |5 ?3 r# c5 k, X" l/ V
• 对给定特性目标要求优化膜系设计;
4 z K. L0 ]' v8 s( w, t/ e/ A• 维护材料的光学常数;9 j W5 T) d5 X) M4 T9 N
• 对已有设计进行分析;
% P. ?: ` }7 j% H/ l3 b• 膜系设计的合并分析。
7 u- S& u. _) R) a1 \) h- G! B. ^7 \$ L8 ~8 N: I& h: x
Essential Macleod的核心可用下列附加模块扩展原有性能：- E8 g7 c; G6 p9 T. O/ z' c
 Runsheet
- o3 _7 ]5 a, d* V这个工具可生成镀膜过程中包含机器配置的运行工作单。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置，材料源以及工具因子以及监控系统。使用者可使用运行工作单生成器对机器进行配置，及镀膜设计的监控。该工具可设定光学与晶体监控，也可设置诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。
' S( ]( j; K/ B- N Simulator
. f, I) E+ l' k4 y; e公差估计是镀膜生产中的一个实际问题，很难有好的分析方法。Simulator 通过蒙特卡罗（ Monte Carlo ）法在实际模型控制过程的扩展来进行分析生产中公差问题。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积过程，考虑系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，堆砌密度误差等等引入随机误差，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应，从而分析各种误差对镀膜特性的影响，及评估膜系设计的可操作性。
9 t/ ~( x. U$ O! r+ zSimulator解答了不仅只是监控的问题。所有与镀膜系统结合的所有其它参数也能转成模型参数并且检验它们的效应。+ h0 u; g( t$ f, x- s
 Monitorlink
2 f" q0 `# m6 W# | e# RMonitorlink提供将Runsheet连结到一个铺置控制器的额外软件。一个独立的程序与该控制器直接沟通而且一个Runsheet的扩展程序也赋予其产出和编辑铺置程序的能力。
3 e+ v/ z5 @8 P VStack
5 i/ N' Q6 ~" R. L计算和优化非平行但法线共面的膜系结构。如棱镜系统的特性.VStack也能计算系统中斜入射光束的效应。当光束是歪斜的时候，一些原本是p-偏振态的光线会以s-偏振态射出系统，同样的，原本是p-偏振态光也会以p-偏振态射出系统。我们称此为偏振漏耗(polarization leakage)现象。VStack能计算漏耗的大小而且提供漏耗组件的△值。9 s1 S* \% V; O) o, d
 Function
, m& t4 p: X* q4 L8 J- `) E, ]6 U: i由于数据表并非为相同波长点的数据，连接数据表时需插值操作， 因此处理薄膜计算，光源光谱数据，玻璃的光学参数以及一些其他信息通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。Function是一个处理这种计算的强大工具，可方便进行数据插值，自动计算。Function可计算一个光学系统的特性，亦可以计算黑体响应，输入功率，输出功率，热辐射，吸收功率，太阳吸收等。
7 H6 k3 O4 j$ C. g DWDM Assistant/ ^5 h" V0 W3 z# n1 s& E1 v! N
光通信中窄带滤波器设计(bandpass filter)。 是严格的1/4波长倍数的膜系。可以对设计结果按某种标准(如总厚度)进行排序,并估算沉积时间。
& V4 I5 g* \! I/ G1 k( u/ n6 d$ N6 \) ]+ J7 x
详情请咨询讯技光电科技公司 www.infotek.com.cn |
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雷达卡
发表于 2010-9-7 14:32:46
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