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真空工艺对环境的要求9 ^2 B" c; G/ f) D
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常规真空工艺对环境的要求- s. f1 y% x/ a# }" l6 j0 n- Z
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5 X: J, c* b2 ~$ S ~ 所谓常规真空工艺系指没有特殊要求的真空工艺过程,这类真空装置(设备)对真空卫生的要求:4 k3 x: `8 h6 N [
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(1)凡是处于真空中的真空设备零件,都要求无积存的污染源,表面无尘埃,无铁屑、无锈蚀;
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(2)真空设备的真空室表面要光滑、无松软组织和气孔、无内焊缝等影响真空的缺陷;( B% v, J/ Z1 V, X0 S, \# Z
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(3)高真空设备中,真空室内的运动部件不得用机油作润滑剂,要用饱和蒸气压低的扩散泵油、硅油作润滑剂;法兰、观察窗的密封部件要涂以高真空油脂;
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(4)真空设备一般应在温度为15~30℃,相对湿度不高于70%的清洁空气流通的环境中工作,冷却水进水温度不高于25 ℃。
6 l2 m$ e9 y, A6 b- X! G, E8 q# x电真空工艺对环境的要求* O3 @" d1 _. F( o% N+ I2 \! d3 S
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电真空结构材料除具有良好的机械性能和加工性能外,还要满足其他性能的要求,即容易除气、低的饱和蒸气压、一定的化学稳定性、一定的纯度和清洁度、合适的辐射能力等。所以电真空工艺具有特殊性,对清洁处理要求是极为严格的,应最大限度清除或减少零件的污染。, ?$ b( p& M, Y/ I& D1 n2 d
真空镀膜工艺对环境的要求
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2 h J6 L4 m, S( i 真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要,基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清洗方法将其去掉。 |
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