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电子枪蒸发速率曲线不稳

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发表于 2010-5-18 13:21:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位好!
, l+ E/ {- M% Y* h1 N# d8 L机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。
5 c$ d) y9 {! b, C) L6 C9 k4 C
7 e2 ?+ I* K# H( }" I$ S工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。5 J! i7 T5 h* h" F0 j; \6 r2 M

$ m# c: J# @: m6 B6 b! Y症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。
9 c2 {2 a& P6 V- \- d! X% [" ?/ e; g% i& j  Q  s
使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。5 ?  \% R4 J, m7 a" n: r' o
: \9 C7 i: D" J: h
所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)3 K2 l! F  D/ D4 \9 S( z( }
                2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定# y  a# T3 e  X  x- m" y$ \
                3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定
, |/ q/ R' l4 k; B( x! [" \                4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳
' K4 I* U6 h! T9 D" m' s- p/ l
" `9 P8 `& ]5 P$ B' s分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。/ o2 B0 |3 D: ^8 X
      2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。( K' Z4 f  D9 k& W& X+ k
      3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。
8 ?5 S- h/ H& {$ X4 M: O9 H9 r- _; }, P& K      % f& s  Z) ]. v0 Z% ]6 R

# p2 M  P; y4 @各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!!
发表于 2010-5-19 03:08:42 | 显示全部楼层
.工件架转动时,蒸发率曲线不稳定,是不是工件盘转动时产生静电?还是产生震动?
5 q' T' ], b- v" J- M+ I6 N3 \3 T是不是主要是离子源的问题啊,
5 v2 ]: Z" h$ W" d' x( F; c7 a8 i0 u晶振探头到振荡器之间是否通?; o" K( A' D( Y' q
把晶振重新打磨,最好把里面用细砂纸也打磨下,看看5 w" u% K) X. H. M3 [7 E. P. F! b* ~
另外还要看看冷却水温??0 V- m& U8 x& O. [4 z* q' o
还请别的高手说说
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 楼主| 发表于 2010-5-19 13:41:41 | 显示全部楼层
恢复楼上gds4 M' z1 _, T5 Q1 j! ^
1.晶振重新打磨过,3 s; c4 p( T; {- B8 b, A, q
2.探头到晶振器之间导通
; T0 L$ v1 S. }5 @$ \. i3.工件架看不到明显的抖动,但是转速调的快一点,曲线震动会小一些,但是再快的速度,蒸发率曲线不会平直% L( h  g& |3 q, U6 K' N
4.水温正常
: g8 q/ Q% q* s9 e! X/ O
8 |& I) {3 K7 h! Y8 t另外问一下,会产生经典么?转架和轴承都是金属的,腔体接地呀。% z! c6 x* A9 \9 U' {1 H
如果是离子源的问题,那是它是如何干扰晶振的
2 H* g$ o# p; }) @; k- v) g  g- e- ^5 }8 b, @  W; c6 @' _: j
现在设备又无理由的好了,我郁闷呀!
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发表于 2010-5-19 15:06:41 | 显示全部楼层
看来,问题还有点复杂。
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发表于 2010-5-19 15:11:29 | 显示全部楼层
希望楼主解决之后能分享经验!!!!!!!!!!!!!
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