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各位好!
, l+ E/ {- M% Y* h1 N# d8 L机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。
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7 e2 ?+ I* K# H( }" I$ S工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。5 J! i7 T5 h* h" F0 j; \6 r2 M
$ m# c: J# @: m6 B6 b! Y症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。
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使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。5 ? \% R4 J, m7 a" n: r' o
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所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)3 K2 l! F D/ D4 \9 S( z( }
2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定# y a# T3 e X x- m" y$ \
3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定
, |/ q/ R' l4 k; B( x! [" \ 4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳
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" `9 P8 `& ]5 P$ B' s分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。/ o2 B0 |3 D: ^8 X
2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。( K' Z4 f D9 k& W& X+ k
3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。
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# p2 M P; y4 @各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!! |
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