电子枪蒸发速率曲线不稳

fanyushan

各位好！
机器配置：机器为南光1300，双电子枪（日本产）一个蒸发sio2，一个蒸发tio2，还有一个中科九章的离子源（阳极电流约5安培，阳极电压150伏特）。3600晶控。
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工艺：开离子源，工件架转速30转/分，工艺时真空10-2帕，蒸发率tio2为2.5埃/分，sio2为10埃/分，充氧气。
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症状描述：在蒸发tio2和sio2时，蒸发率曲线不稳，上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时，蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。
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使用历史：机器使用快两年了，工艺参数是标准工艺（不用怀疑工艺的问题）。

所作测量和判断：1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆（不同测量点）
- L: o8 n; ]5 D                2.工件架不转动时，蒸发率曲线稳定
                3.不开离子源时，蒸发率曲线稳定
4 [- l8 i! ^8 k! z. A                4.离子源和工件架同时工作，蒸发率曲线就不稳

分析：1.以前出现过类似情况，中科九章的工程师说，晶振上的遮挡板不导电了，导致离子都趋向晶振片，影响力了晶振。将遮挡板打磨后，一切ok。现在同样的方法不行。
- q7 C& M! a, Q# t+ x      2.不导电的工件架，昨天也打磨了，不行。
1 J( S7 |/ f2 D+ Q* g* o+ B      3.工件架接了一根导线，连在腔体上，仍然不行。
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各位，谁帮忙分析一下？？ 万般感谢！！！！！！！！！

gds

.工件架转动时，蒸发率曲线不稳定,是不是工件盘转动时产生静电?还是产生震动?
; d$ F$ h- r+ f. A# O是不是主要是离子源的问题啊,
7 ?2 Z" O- `0 @, J6 o晶振探头到振荡器之间是否通?
把晶振重新打磨,最好把里面用细砂纸也打磨下,看看
6 v* V% W1 Z7 y. t9 Z另外还要看看冷却水温??
还请别的高手说说

fanyushan

恢复楼上gds
1.晶振重新打磨过，
5 U; a3 l# ]- w% A2.探头到晶振器之间导通
7 x7 k  p: b0 n& t& C  D3.工件架看不到明显的抖动，但是转速调的快一点，曲线震动会小一些，但是再快的速度，蒸发率曲线不会平直
9 f$ x! ]# c; G' V2 e7 c4.水温正常
/ H4 N: G& P& U2 `# j  f
6 _5 D. p$ x9 S0 }, r; e另外问一下，会产生经典么？转架和轴承都是金属的，腔体接地呀。
4 b$ ~8 h! ^: L' o" @2 P  K" K  ^如果是离子源的问题，那是它是如何干扰晶振的

8 k: ?# o8 {+ a; W: I; w, S现在设备又无理由的好了，我郁闷呀！

weimao_liu

看来，问题还有点复杂。

1985120

希望楼主解决之后能分享经验！！！！！！！！！！！！！