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电子枪蒸发速率曲线不稳

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发表于 2010-5-18 13:21:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位好!. u9 Q0 i6 A4 a! b5 p
机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。. Z1 A  a9 J3 o! F
, n3 `$ a# A$ H2 {: T; ]: y. R6 ]
工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。
7 C) C. n4 I9 u, l' h& _) V( J6 K$ q- |  `0 _, Z# B  I: L( y0 V
症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。
& v  w6 x- ]4 W5 D1 o2 ~9 k& d/ @) K+ Y1 F0 `' Y' {
使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。
  w& h: v" J; u8 f! O) P0 \
: p- J7 O! z+ o$ _; b4 U- l9 o/ b2 z所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)
! K, E# v) [$ @! K, t9 I: b' S                2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定
% S! ]+ N4 G- i                3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定- w. |3 N9 M+ o# M
                4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳
* i$ y8 {! f: A" n" f. H. i4 L0 v  w% X$ ]- T
分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。
; N7 n  B$ Q/ s  i, O- [1 t7 @6 f      2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。
/ }" n  n0 e. M- m1 p) M      3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。4 |% _; g4 G7 y4 _% h; F+ U
      & ?8 u+ ]& A. ]
, W7 I+ j1 G# z
各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!!
发表于 2010-5-19 03:08:42 | 显示全部楼层
.工件架转动时,蒸发率曲线不稳定,是不是工件盘转动时产生静电?还是产生震动?- i' s4 f7 D/ f& Q: b* U
是不是主要是离子源的问题啊,- X3 h: @4 n; N- w6 Q' n; q
晶振探头到振荡器之间是否通?
0 Y& w, e/ T4 t/ [" g: f# K把晶振重新打磨,最好把里面用细砂纸也打磨下,看看7 ^6 s! o: l3 D6 i4 Y1 z" L
另外还要看看冷却水温??% R! s9 E! G0 R9 B( B
还请别的高手说说
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 楼主| 发表于 2010-5-19 13:41:41 | 显示全部楼层
恢复楼上gds
5 E9 I) C' _7 b8 D9 K1.晶振重新打磨过,4 I% `) [/ w' a* E$ n
2.探头到晶振器之间导通
3 x7 e/ J" p) o" P( S6 P1 {9 m3.工件架看不到明显的抖动,但是转速调的快一点,曲线震动会小一些,但是再快的速度,蒸发率曲线不会平直
, E& M7 S: ^' c. c, |+ ?" T4.水温正常
( ?' C) |/ z' ~& {
2 d& p( p$ R2 ^; Z% ^, c另外问一下,会产生经典么?转架和轴承都是金属的,腔体接地呀。& y% R# b# @; t( R1 l3 ~1 V
如果是离子源的问题,那是它是如何干扰晶振的0 V& l3 K! Z0 ^

6 B6 f9 N* t: I" \+ a现在设备又无理由的好了,我郁闷呀!
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发表于 2010-5-19 15:06:41 | 显示全部楼层
看来,问题还有点复杂。
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发表于 2010-5-19 15:11:29 | 显示全部楼层
希望楼主解决之后能分享经验!!!!!!!!!!!!!
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