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各位好!. u9 Q0 i6 A4 a! b5 p
机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。. Z1 A a9 J3 o! F
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工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。
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症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。
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使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。
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: p- J7 O! z+ o$ _; b4 U- l9 o/ b2 z所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)
! K, E# v) [$ @! K, t9 I: b' S 2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定
% S! ]+ N4 G- i 3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定- w. |3 N9 M+ o# M
4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳
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分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。
; N7 n B$ Q/ s i, O- [1 t7 @6 f 2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。
/ }" n n0 e. M- m1 p) M 3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。4 |% _; g4 G7 y4 _% h; F+ U
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各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!! |
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