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薄膜制作技术的现状

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发表于 2010-2-15 20:23:52 | 显示全部楼层 |阅读模式
【标题】薄膜制作技术的现状
. n" N  k5 q* N4 Z- H) i【作者】金原粲; X2 ^: D; w: {5 [' ]
【关键词】薄膜制作技术 薄膜 制作
1 w6 Q4 ~) |1 k. ^) m0 n. z【刊名】压电与声光 1993--5
, S3 W* a9 @% }0 n【ISSN】1004-24747 C$ b; |) m% q+ v% B3 ]
【机构】不详
, j* u: y( ]1 x- t  `7 O5 C【摘要】

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longmin

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发表于 2010-2-16 01:47:49 | 显示全部楼层
謝謝樓主: N+ c! j9 ?" _! d0 z
    
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