纳米薄膜测量--激光椭偏仪

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椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。

产品说明：
多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：
2 C6 y5 O' \5 j2 B 1) 单层纳米薄膜；
2) 多层纳米层构膜系；
  X2 |6 s# i: ?& ~% C' X, l3) 块状材料（基底）
4）透明薄膜
2 K* u1 @3 K3 D' G0 }
- g  i: x& [, JEM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性

产品性能简介：

[     产品名称：激光椭偏仪
产品型号：EM-633
) A* j/ a. h. V, j) i# q" o9 j9 ^
Multiple Angle Laser Ellipsometer
多入射角激光椭圆偏振仪
3 I1 s- V' r, i5 z- R) {" O
; ~( I; F" C' G( `7 D8 f: f
8 C$ ?7 M: N2 v2 e产品特点：

  l  A1 J4 t0 I3 C& F$ w$ ll        高精度、高稳定性

4 E+ M$ g$ [5 u. ^( Jl        快速、高精度样品校正
( X; E1 U. ~& y
l        快速测量、操作简便
) T" J1 r3 d3 t" z
l        多角度测量
( b0 |# m9 \) D' M- R$ q
) D. ]$ L" f' S* t- Dl        样品可水平或垂直放置
0 X  Z1 X$ x' `0 M1 T1 @
l        一体化集成设计
# Z1 O- P% @* W) q, [4 X% r


   椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
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  A( r* P0 [* P+ ]( q8 U/ i产品说明：

1 N. z) A/ W' ~5 I! x- U$ S9 q多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：

              1) 单层纳米薄膜；

2) 多层纳米层构膜系；
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3) 块状材料（基底）

4）透明薄膜


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EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
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. X* p& ^2 i* q! Q% z9 f& x EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性
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8 J6 \! h; e2 u/ w6 w: j产品性能简介：
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; ^6 {- G* d! T8 y5 Y; W% |
l         高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度；
6 C" o; L9 |; p7 W
l         样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。
7 t0 ?2 w7 Q* d3 A5 k) }; j
6 t1 \% Q9 F/ C% cl         高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。
6 q" z- b# ?, P2 M) `/ j$ g
0 z  G! q  ~4 J; S, n$ Ml         采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。
" \& ^) Q9 G9 G
" ]' q9 n5 ?$ v' n. \2 Fl         耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。
) E; g& H+ w& w6 P( b+ M4 O
l         高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正；
- F+ x  c' i6 v2 J9 w- M0 g. q& c+ e
* k1 {" G. J3 L' Nl         稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量；

, \0 R6 }2 I. e9 X8 r# ~+ fl         分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量；
( r/ `3 p$ R* v2 S
l         仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试；
( A% d) X- x8 H+ h( D
l         一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间；
; d! ~4 W2 ^: l' k2 w
) {/ Q5 u8 e+ m% g, `: ?2 J" f* v4 Yl         专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。
7 G9 M, ~) K- }+ B
l         内置模型数据库，免费的软件升级
9 z: e. S0 O3 R$ B3 o

8 Y: n  c% `2 W/ V
1 z3 U  \( D+ ]. ?3 \规格及主要技术指标：

- W0 \" ~% ^* V5 u5 ^+ [/ o$ }EM01技术指标：

激光波长:632.8nm(He-Ne laser)
6 ~+ @8 K" l* g* C
( ?: @8 r5 }1 d0 H6 m激光稳定性:0.1%（rms）

ψ和Δ的精度:δ(ψ) = 0.08°，δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)
2 r4 d2 @% D0 K
膜层厚度精度:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

重复性:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

折射率精度:1x10-3(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

结构SCA
4 `2 i3 g' W4 w. s8 Y9 @+ b8 `$ Z
) H2 [9 E: w: I# {激光光束直径:1mm

入射角度:手动选择，范围40°-90°，步进5°
$ ?& Z% P7 p' W, X
样品方位调整:
三维平移调节：±25mm（X-Y-Z）

二维俯仰调节：±4°
3 R& f; p5 l# D; B6 Z7 t
光学自准直望远系统监视:
8 d6 h, I) {2 }: p) L) W
最大样品尺寸:Φ170mm

$ J) x- f% _2 Q单次测量时间:200ms
; K, ?- \; a; Y
) P: c! o, k. V1 f$ E2 M. K推荐测量范围:0-2000nm
! g8 U1 v! Q- c! L& j- t" G/ v
外形尺寸(长x宽x高):980x660x430mm (入射角为90º时)
1 Q. y& G: y5 P* G+ D4 f+ _* n
" @- D& k2 i  J! f: Kdec-kevin@163.com

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