纳米薄膜测量--激光椭偏仪

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椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。

产品说明：
' P5 ?% [" Z  w- t多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：
" \+ N5 @3 @5 g; `9 Z 1) 单层纳米薄膜；
+ o3 K# v$ i1 ?/ N9 T  N. F" v2) 多层纳米层构膜系；
* }4 Q8 \! u0 }, L; W3) 块状材料（基底）
! ]! z' H% b2 o8 {4 r- A4）透明薄膜
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EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性
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产品性能简介：

[     产品名称：激光椭偏仪
产品型号：EM-633

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多入射角激光椭圆偏振仪

( |) `  D7 |5 c2 R! ^
3 h' V# n9 s2 ~- w" V产品特点：

' h. o. H" k: P' I! g. B5 M0 m0 a# ?l        高精度、高稳定性

l        快速、高精度样品校正

; r) K9 B: L" _% @! ll        快速测量、操作简便

7 P4 f7 H! R( L7 z9 l# E+ f' \l        多角度测量

/ ^* `$ ]3 P  b9 s% [% ql        样品可水平或垂直放置
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7 V7 D! [% a7 xl        一体化集成设计

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   椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
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产品说明：
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; G7 q9 q& W; v+ [+ _多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：
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              1) 单层纳米薄膜；

2) 多层纳米层构膜系；

; ~1 C% `/ S- {5 u3 P6 |0 A- R3) 块状材料（基底）

4）透明薄膜
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EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
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! x$ Y  B1 h2 i' n' d EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性

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产品性能简介：

               

l         高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度；
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4 A$ ?8 w8 H, r4 xl         样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。

l         高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。
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l         采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。

l         耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。

( c7 k( F* V# _" bl         高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正；

l         稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量；

l         分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量；
, E" d* ]: |/ s( @- V6 B
l         仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试；
. z/ ]: B1 ^4 G! Z2 a( M; Q
! ]/ T& R: H& e7 L* M( A6 D& ~l         一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间；
( Y9 G) p/ }. U! [9 F: N0 ^5 [
l         专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。
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" D& I- K& j/ _3 _& a) _l         内置模型数据库，免费的软件升级
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0 B6 `+ j3 `% S# O( H

/ W" V0 I# X' M8 w4 L3 q$ T规格及主要技术指标：

: B3 G7 q( p5 @  nEM01技术指标：

激光波长:632.8nm(He-Ne laser)

激光稳定性:0.1%（rms）
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4 U3 L' r8 F: r8 g0 [" Lψ和Δ的精度:δ(ψ) = 0.08°，δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)
* D+ S. _6 M& b: |7 E$ h  C* Z  Z/ D
( C5 \$ B% \3 e* V' o膜层厚度精度:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
, W5 ]; ]2 H7 _8 c0 b% R
重复性:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
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折射率精度:1x10-3(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

结构SCA
3 h8 k' m! L' F7 O/ `7 m- B
激光光束直径:1mm

' ^5 }/ z) F8 t" p入射角度:手动选择，范围40°-90°，步进5°
1 [. a# G/ E- i6 n
; p& s( {. h' X- ?" Z3 n2 K. i; ~. y样品方位调整:
. s8 A* ~7 c1 H" f( z& G) d三维平移调节：±25mm（X-Y-Z）

二维俯仰调节：±4°
! e, [9 |- e) j9 z7 m( |2 d" _0 V6 g  V
光学自准直望远系统监视:
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) k' u' `- n& O8 q最大样品尺寸:Φ170mm
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6 A4 G; H/ c" h; U, L9 x7 c单次测量时间:200ms
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推荐测量范围:0-2000nm

外形尺寸(长x宽x高):980x660x430mm (入射角为90º时)
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; K5 i. Z' H9 r) g8 w& hdec-kevin@163.com

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