纳米薄膜测量--激光椭偏仪

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椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。

产品说明：
- H& z2 [$ V# b0 h3 n多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：
1) 单层纳米薄膜；
) x% J9 t3 k/ E* H# P% p2) 多层纳米层构膜系；
" g5 V5 |7 y; W* k, Q& G3) 块状材料（基底）
4）透明薄膜
1 S- c: i7 I, O- S
EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
3 s; v+ J+ d: r' x$ V5 F6 K: } EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性

) n3 g# C8 `( w& E产品性能简介：

[     产品名称：激光椭偏仪
" i' m& q% N9 f$ J' M6 O, L  }0 u3 t# P产品型号：EM-633
) ?+ s5 |2 {( z
Multiple Angle Laser Ellipsometer
) K  S& D' k3 H+ O( C) o多入射角激光椭圆偏振仪
7 J& x7 \; M) ^! d5 q9 m- E
9 s2 j/ ^8 M3 {3 f/ Z
产品特点：

7 f* h- z3 z. f( y7 ~l        高精度、高稳定性
% Z) P: |! S5 N. V, _' y
8 z) N* e" [% @l        快速、高精度样品校正

l        快速测量、操作简便

, L0 I! G3 j+ ~, M/ Kl        多角度测量

- Q9 ?, v2 n2 i1 y8 i3 i2 sl        样品可水平或垂直放置
- q. s2 P3 L# ?3 x# V+ x
l        一体化集成设计
1 L& l" `: {) `) f9 Q
8 I2 N6 o. `5 X; q- M0 o

' v* K  g7 b# R   椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。


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产品说明：

多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：

              1) 单层纳米薄膜；
. R' o( d3 a$ D1 [8 T
2) 多层纳米层构膜系；
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4 c1 l4 k6 A/ {6 _. L& |6 L3) 块状材料（基底）

4）透明薄膜
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5 D! O* V1 y6 b2 _1 zEM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
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* ^3 X9 d4 L- F' X% _8 H9 V EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性



1 j! _- ^. A. z2 j5 E产品性能简介：
2 B+ ^; N9 D6 \6 h6 M7 Q
               
5 W7 u, o* `, k4 d) q- d1 Z
0 F' p0 \/ x! w3 ?4 ul         高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度；
' V" I# K, L% O/ @9 B- N3 b
3 P4 c! q- g( t( o# `l         样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。
" {5 e/ k  J- h" i1 L
l         高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。
, q9 ^" [! ]( o$ K% i
! \, r, ]( I5 o" O8 }: s4 _l         采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。
. I) R! F5 j; t9 F" B- Y
1 q; F8 P& z: j& G3 m  z3 Dl         耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。
3 l  Y1 G3 \" z0 O  {; T3 @7 ~
l         高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正；

l         稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量；
4 ~+ Y: b- p: J) r" n3 j8 G
l         分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量；
+ c- R# H, m+ d) O8 b" t  u9 d  J
l         仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试；
# O( r5 e& ~. }. v2 Z
0 P, i9 ^, P7 ~- e5 z+ y; j7 ~8 L) Dl         一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间；
) T0 w: k" A1 [, A) h: S: C/ x; |
* _/ r1 y' e' d3 E  b! Y) Ml         专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。
# o' @2 h( X& O# [9 E0 ~
7 J% W* N- U+ F1 N, M- ?l         内置模型数据库，免费的软件升级


$ A) R' Z. g' w: o% O
1 s2 P3 x) x; `+ ^5 g1 i& f' C规格及主要技术指标：
1 M: |( J5 @7 I' \
EM01技术指标：

& D4 ~0 T3 ~) y) j+ D1 |% I0 }0 E激光波长:632.8nm(He-Ne laser)

# m& M: x! k  L9 x+ L; ^激光稳定性:0.1%（rms）
6 F" L+ D& |9 D0 }
# k6 a* z/ J2 O$ sψ和Δ的精度:δ(ψ) = 0.08°，δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)

0 s% P* U) E; A1 A* C膜层厚度精度:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

重复性:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

折射率精度:1x10-3(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

4 n4 o- Q4 M6 Y' h- Q结构SCA
# q7 S$ B( _- c5 |' Y7 R7 F( Z
激光光束直径:1mm
7 l3 M$ v& ~9 F/ Y* K3 _) p
$ z% Z% {; s, w! o' o入射角度:手动选择，范围40°-90°，步进5°

( i* n7 K" }4 R5 |/ T) E1 L, \样品方位调整:
三维平移调节：±25mm（X-Y-Z）

5 C8 v; q0 ?6 ^" q; y二维俯仰调节：±4°
- [( O) }9 W  S, I! \
1 Y1 g7 e6 e/ f1 F光学自准直望远系统监视:
, Q+ [* Y/ `0 {, f( j% d
, ?: x6 R: }0 x7 w最大样品尺寸:Φ170mm
$ F  {! O5 U- `  m% j' A: u. W* {
单次测量时间:200ms

/ n8 b4 z9 k& s* }推荐测量范围:0-2000nm
0 Z1 K$ X5 I1 B3 q9 {$ G) p
0 {' H9 @8 D, E& y外形尺寸(长x宽x高):980x660x430mm (入射角为90º时)

0 O+ `4 e+ [- N+ `1 M7 n4 Rdec-kevin@163.com

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