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1315 nm高反射率硅镜的膜系分析‘ : A& c1 F7 t) W, Q
彭玉峰程祖海张耀宁周次明杨春华 . }# ^& L: F+ E6 {8 U
(华中科技大学激光技术国家重点实验室，武汉430074) Y. {/ F+ k. C. r4 d3 C" ]
提要利用TFCALC薄膜设计软件包对TiQ/SiO-TaiOsISO,和S/Sio,膜系中心波长为1315- 的硅镜反射特 ' k. Q. J5 y/ e( p% ]0 S
性进行了仿真模拟。给出了正人射与45'斜入射情况下三种膜系硅镜的反射特性，并进行了分析与讨论。
$ N# c3 F) F9 ?6 {# [关健词化学氧碘激光器，硅镜，高反射率，薄膜
! `2 c9 {9 Q ^) U中圈分类号0484.5 文献标识码A
' a9 F3 J, y- w! A$ uAnalyses of Si-mirror Film Systems with High Reflectance at 1315 nm - k: z3 m* i) c; }7 o
PENGY u-feng CHENG Zu-hai ZHANGY a-oning ZHOU Ci-ming YANG Chun-hua 2 g) g/ O4 t, U! h- ^0 Y Z6 H
?Yational Key Laboratory for Laser Technology，H-zhong Unirrrsity of Science and Tech-log ，Wthan 430074 4 c1 W+ e% A; S' C3 G7 v
Abshxt Reflectancep ropertieso fsi limrtm irrorsw ithT iO,/SO,.,T ar05/&O,，andS ifSiO,fi lm systemsa t1 315n m
8 S" u/ B* j' Sare manericaly analyzed, and disrvssed under conditions of normal and 45' tilt angle incidence, respectively. The results
( Q& W9 |- F. E- Kshowt hatre flectancep ropertiesof T iO,/SOran dT a,q渴qaresi milar;th eoreticalre flectivityis le ssth an9 9.9596fo r ; W( _, C) }) x d; Q2 D* R0 j, S
1315 nm laser wavelength. Theoretical reflectivity of Si(c)/SiQ stack can be more than 99.9996
4 S" x5 ], P! l YKeyw ards CO IL,s itiornm irorrs,fi lm,h ighr eflectivity |
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发表于 2009-10-22 00:03:40
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