TFC设计中小于10nm的膜层有几种处理方法？

zhaoyou1010 · 发表于 2009-9-7 00:53:26

TFC设计中小于10nm的膜层有几种处理方法？有最好的方法吗？

gds · 发表于 2009-9-7 16:44:37

我一般将厚度设为0，其它高手呢

飞鸿2009 · 发表于 2009-11-12 21:23:51

干脆去掉也行哪个

yifeng602 · 发表于 2010-6-2 06:05:12

干脆去掉也行哪个

qqoptics · 发表于 2010-7-7 02:44:05

最好不要去掉！如果它旁边的两个薄层是同种材料，那么膜会太厚，容易脱模

默默地浇水 · 发表于 2010-8-11 04:45:25

那你设为0 不也是没有嘛？有什么区别吗

ccs · 发表于 2010-9-5 19:00:43

这个要看你是什么控制方式，如果是晶控机，把他固定在7-8nm再优化也是可以镀膜的，但单层镀膜时间应在25秒以上；如果是光控机，先采用上面的方法，再将薄层采用晶控就可以了。一般IR-CUT也就2个薄层的

khchang · 发表于 2011-4-30 15:01:01

樓上的答案都很有幫助!!

jiaguang · 发表于 2011-7-23 08:59:27

看看，学习中

18310326401 · 发表于 2014-6-26 14:25:30

去了在优化

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