哪位好心人能发H4的材料库数据给我，谢谢了！！！

doudou1592

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gds

还是根据自己机器镀制后测量计算适合自己
5 i" K. L% {: c% d: v6 a- k
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镀膜材料
6 v9 O0 {* ^6 [  b2008-01-02 20:28:14
TiC、CrC、TiN、TiCN、TiAlN、TiO2
: L/ [! k/ E) W% sH4膜料的特性.膜料为一高折射率材料. 使用两种膜料来镀增透膜,SiO2通常被作为低折射率的膜料,氧化锆, 氧化钽通常被作为高折射率的膜料.然而,H4也是一种优异的高折射率膜料,优点如下：
　　TiO2:由于折射率太高不能被利用。
　　*稳定的折射率(即使从一个坩埚中沉积次数
　　*高度的均匀性
- N& Y! w& c+ P7 u　　*高透光率的膜层
　　H4和SiO2一起使用也可以在未加热的基片上形成坚硬,没有吸收的膜层,因此,它是应用在树脂眼镜片上很好的膜料.H4也可以被应用在离子辅助沉积法中(IAD,IBAD)。
& \9 C" S6 @7 p, Y. F. x　　综上所述,H4在大多数增透膜上有着其它膜料无法比拟的合优势.但是,在紫外应用中,H4则不能被考虑,此时;紫外级别的HfO2可适用。

4 s; b; u5 I- k: S6 Q. B5 ~* b7 C! t默克公司Patinal镀膜材料类别及特性
类别
( w: ]+ E, w" f" s) b材料名称
规格
) @+ X, d5 g* \1 r: }1 o1 X9 k" s3 k. I0 `折射率
' M( T+ \- _. x) J透过范围
# N6 u! p2 m( X2 E8 H* s4 r蒸发温度(℃)
. o0 O, D8 o1 m+ l3 v: Z蒸发源
非金属膜料
MgF2
; O. F8 a- u2 k! T1-2.5mm
3 {) g: R- ~$ v; X0 a1 r# Y1.38at550nm
% L2 H+ v8 L* ^- ?200-7000nm
1300-1600
" l% _- y0 y( a4 [3 tE.Mo,Ta,W
6 E, N5 d7 C$ n/ R& e+ `9 d2 }9 T; {Si02
1-4mm
/ w& t( P% y( j" U* y: w( X2 o1.46at500nm
200-2000nm
1800-2200
E
$ M; m4 y+ d2 Y1 G. C8 D" Q5 YCeF3
1mm,1-4mm
1.63at500nm
$ P1 A& m( a3 s- R. U1 Y2 L2 m300-5000nm
1400-1600
" P+ N6 }  t& h1 KE.Ta
AJ203
1-3mm
2 `1 G' a( _) b+ Y4 A( d$ C* A) L1.63at550nm
200-5000nm
2000-2200
E
( h; s) U) q6 w$ `, P4 v- O5 }Si0
粉末、颗料
1 q6 j* h* E: b3 w7 z3 g1.8at1000nm
. T+ L/ K& \% P/ ^) q800-8000nm
1200-1600
  H  j" y$ j9 N& t/ g5 Y/ o* D* UE.Mo,Ta,W
' I( F" a$ x" X* gZr02
颗粒、片状
# O/ ?/ B8 b4 m5 G4 {0 x. [2.05at500nm
( j4 ]0 w, s+ l* U9 I! X( n5 J320-7000nm
约2500
3 ~; Z; ^( D" d( kE
, @; Y* r. p+ Q$ \( mTa205
颗粒、片状
& M0 ~2 M4 v/ y! C; h2.1at500nm
$ _, p: `) ]# F350-7000nm
1900-2200
E
Nb205
1 d" V# z/ Z1 C/ f- @6 E8 M1-4mm
2.3at500nm
/ t; l% q* a3 h6 i" _. t6 h350-7000nm
4 U, V& z, Q4 x* j  e5 H1800-1900
E
Ti02
13.5*6mm
2.4at500nm
400-12000nm
' ~: m' D2 W' u, W! }2000-2200
8 p+ E; a2 Z# u2 D/ GE
+ v+ |2 S+ I9 l/ y1 H; P; STi203
10.4*5.1mm
; [0 V- b  F; V3 q& y9 S2.4at500nm
! @0 Q4 ^% v; o8 c/ y5 Y# {+ M400-12000nm
* [8 j- w: H( r6 u4 n2 b. x1800-2000
# u) \+ S* I! SE,Ta,W
Ce02
1-4mm,2-3mm
8 O! @8 S" M, l/ g7 N+ t/ D: x3 ~' G2.0at500nm
400-16000nm
约2000
! c- [- f1 F* DE
0 h# f6 b" r4 z特殊混合膜料
9 {/ M( u& L  t. pTi0S
1.4mm
2.4at500nm
, U- F$ J9 v# I3 f5 }360-12000nm
1800-2000
E,Ta,W
9 `. I# W# ]7 b9 [1 ?6 g8 lH5
7 j5 m, J- W) F8 M3 ]! V0.5-2mm,1-4mm
2.2at500nm
350-7000nm
# Z6 K5 M7 M" Q! G0 E  L约2000
E
H2
# h6 b) R) D0 F  q0 W1-4mm
2.1at500nm
400-5000nm
$ |' S5 C0 Z- [( }0 o! g2000-2200
# x: u$ O0 x3 @: zE,W
H4
! U; p. n; g5 A1 N1-4mm
, @  X2 F" V" ?2.1at500nm
. u  K" `$ p' w2 R6 s360-7000nm
3 z* A* v3 e5 Y- X# h0 {2200-2300
E,Mo
M1
/ t4 S1 q# `* @4 _: n% Q- X. M6 r* l1-4mm
# ~7 j6 v4 w0 G# t/ e- _1 U# p1.7at500nm
+ ?* y, m' m7 S300-9000nm
. O3 {" L( Q' Y  y# r& U4 ~2100-2200
E
M2
1-4mm
* J) y3 Z5 j4 R3 Y1.7at500nm
210-10000nm
% i1 C* W; g7 k2000-2200
E
M3
* I3 X  M4 S* X8 X8 ~1-4mm
3 _" x- W9 P- v* D1.8at500nm
2 z7 J' a$ {5 D; i* Z# c220-10000nm
约2100
E,Mo
L5
0.5-4mm
" L2 y! T8 z5 H* o4 r$ R- I) O1.48at500nm
300-7000nm
约2000
$ \' p" _0 W9 ]E
! y6 m0 t, o& O. v# X6 M. e6 pWR1
7*5mm,11*10mm
) V$ \" J8 B/ E* M) w" Q1.5at500nm
; l0 X8 R, y0 V) I& s$ n/ O( h# n9 l380-700nm
( _: L7 w' Z4 e- p1 m5 i  g+ l1 j- k360-450
Mo
WR2
11*5mm
- ~8 K4 X) G, Y$ m8 |1.5at500nm
380-700nm
' ?" i/ e& W) l360-450
, g5 {& {7 _2 N: uE,Mo
7 E2 a3 E# i; u9 [3 u# E& h* o  IWR3
$ [9 v5 ?" H5 C( h: s1 U11*8mm
1.3at500nm
% m* v5 a% q( M. Q1 N380-700nm
350-500
4 y# j, D& o6 f  ^Mo
H4膜料的特性[/url]
　　
一、H4膜料的特性
$ }1 ~& w( E3 X6 @成分
钛镧混合物
' R+ r. O7 ~6 {: P( F, B9 y外观
1-4mm的黑色颗粒
密度
5 X, F4 K  P/ |7 @) n+ F1 }  K6 B5.9g/cm3
熔化温度
1800℃
+ p- J+ w, F# k8 z" v+ W沉积温度
9 Q. ^  y+ |( C) _9 z2200-2300℃
% k6 _3 F  K% h: `0 m沉积源
0 F0 N" a% w9 P% g! j/ I" K电子束
坩埚
铜或钼
: b, N5 F: v# e0 b7 F氧气压力
% b0 l- Q8 z" [% ^3 q1 m0.8-2×10-4
$ S1 s+ M/ B. ?# I- J7 P2 S: J沉积速率
0.2-0.8 nm/秒
' Z# }0 ?1 }* v5 j! J基片温度
% \9 C( q/ j2 V$ d+ t: {大约30-300 ℃
二、H4膜层的特性
基片温度
) J! ~4 K3 Q1 R& @8 Y7 t/ q& V* W! n2 \大约30℃ 300℃
# ^; d4 S2 E9 Z/ T8 t500nm时的折射率
1.99 2.12
400 nm时的吸收
吸收边缘
& j% Q8 K0 A  O' B$ u: X! I300nm
*吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。
9 }4 U9 ~$ Y2 s( }+ \  a! D" p! ^三、折射率的散布
基片温度
5 j" G+ n" h; {0 q9 L! h; M散布公式
0 a# A: w5 j% b+ R大约30 ℃
n=1.887+25410/波长2
100 ℃
n=1.982+29820/波长2
) Q5 R, H4 |3 U5 H, u* g2 C" d300 ℃
n=2.009+28880/波长2
[url=http://www.jinyu-opt.com.cn/detailed/detailed01-2.html]可获得高折射率膜层的膜料
6 z( t9 _4 d* p　　　有许多膜料可以得到高折射率的膜层(>2.0在500nm)。我们可以提供以下几种氧化(TiO2,TiOS,Ti2O3,Ti3O5,TiO),氧佛钽，氧化锆，氧化铪以及硫化锌。我们同时也提供独有的我我H1，H2，H4。
$ p/ ?  Y3 |% l# I- S表1：可获得高折射率膜层的膜料的较
膜料
大约在500nm的折射率
$ V) M7 K5 t& e1 E5 `透光范围
! s8 {) x) [1 B+ `$ O) ~氧化钛
2.4
2 G4 M  o* i3 Y2 H9 w: v400-12000nm
4 u" O2 o* }/ c% E' ~氧化锆
5 I, D+ g9 v8 d2.0
320-7000nm
氧化铪
2.0
3 x9 o9 _1 d+ N' c/ J' T, M230-7000nm
氧化钽
  F- i4 h" L! N2.1
6 O+ A+ p( R) ^8 h5 ~350-7000nm
物质H1
2.1
360-7000nm
物质H2
2.1
% R' I; [9 }  Q6 q400-7000nm
物质H4
( w4 a  e' u+ |8 I# w7 q8 ?$ h, j2.1
& C" @9 [2 z8 I( `4 }360
高折射率膜料的比较
膜料
) O1 p, ]+ W2 h9 ~& g+ x特性
3 ?/ Q1 Z3 [9 HTIO2
+400-12000nm的高透光率
+从熔化的状态下沉积
+一致的沉积 -2.4过高的折射率
-熔化时有氧气放出 熔化时有溅射
+ ]1 A, P' v4 Z, q: Q- d* S; WTa2O5
- q1 _* J6 L# j0 w, f+350-7000nm高透光率
+2.1的折射率
+ @2 e9 J5 H; l% B- U1 Z+从溶化的状态下沉积
+一致的沉积
  B7 w+ ]2 e+ _" q) P# B5 c-熔化时有氧气放出
-使用中会变成低态氧化物
. @4 |, y3 K; h- x8 U  ~2 W% {: _9 }% t-蒸镀后需锻烧
2 b! V( q! S4 T, H! s* @- M2 yZrO2
. t' o: r3 C' Y# ~, w+320-7000nm的高透光率
/ \2 W( ^5 H( L+坚硬,牢固的膜层
# h# U) Y& l9 x, p9 R. a* u# b-2.05偏低的折射率
+ M: Z6 v6 V& M9 }# Q! ]' A-不均匀的膜层
' I& ?6 ^  q0 {# p-蒸镀时不熔化
: @7 g! ?/ k$ U-不一致的膜厚
( l/ }2 w4 x2 L1 ?* z$ K$ HH1
, E) x0 l- F# i; d, z+360-7000nm的高透光率
7 U3 U/ E) C* W/ ~; e+ O+ F/ ~+2.1的折射率
+坚硬,牢固的膜层
3 o" e9 r( X* U3 a  u+均匀的膜层
; u, U! }( m" U4 {7 O- ~. c-蒸镀时不熔化,难操作
  e; K. G. L; w$ ^-不一致的膜厚
H2
+坚硬,牢固的膜层
6 W7 O  C* C8 e% \5 Y+2.1的折射率
+一致的膜层
+蒸镀前熔化,易于操作
+一致的膜厚
1 D( w/ |0 R# W5 H* t6 f-400nm以下的低透光率
H4
+360-7000nm的高透光率
+对可见光无吸收
+2.1的折射率
( P" E' E$ T0 Y& ^/ o" ^+均匀的膜层
4 Y! d' ?. N' m! i6 g+沉积前熔化
1 R, J/ Q0 c( c7 s+一致的膜厚
2 v& S# B. R& r# }, n; b1 M+适合在塑料上蒸镀
TiOS膜料Patinal

* e/ |" E6 z$ s　　氧化钛是构成应用在可见光和近红外光谱范围内的反射镜,分光片,偏振片和滤光片的重要
( @( [. q3 ?9 x# Y2 L$ {; u+ L/ s膜层。在真空镀膜中,氧化钛膜层有着最高的折射率.SiO2/TiO2膜层设计有着很高的对比折射率,
被广泛应用在多层膜中。氧化钛薄膜可由钛的各种氧化物,甚至钛金属来蒸镀得到.如果用传统
的方法来蒸镀钛金属和TiO,很难得到没有吸收的膜层.用Ti2O3和TiO2,在优化的沉积速率,氧气
压力和基片温度下,可以得到低吸收,高折射率的薄膜。
　　TiO2在加热和熔化过程中会释放大量的氧气.即使进行充分的预热,溅射还是不可避免的.在
这个过程中,膜料还是不可避免的.在这个过程中,膜料的成分会发生变化,直到氧和钛达到一个
稳定的比率.在长时间的蒸镀后,熔化的成分变成TiOx,X的值大致为1.7.X射线分析显示,熔化物
; d5 H# N7 K+ D- Z0 g的晶体结构为Ti3O5加上少量的Ti4O7。为了减少溅射并得到稳定光学特征的膜层,在蒸镀前必
% @6 \& o( d, M, D9 i需进行好几步的预熔。
) h  M( ~, J. |1 ]3 R5 c4 }　　为了避免时间的预热,减少溅射,默克发明了一种新的膜料TiO S颗粒。TiO S的成分和熔化
3 f/ z3 s& R( D6 G物TiO2一致,因此,只要很短的预热时间便可进行蒸镀。
TiOS熔化物的成分在蒸镀过程中不会发生改变,因此可以得到均一的膜层和稳定的折射率。
TiOS的成分为TiOx,X的值为1.7,在Ti3O5(=1.667) 和Ti4O7(=1.75)中间。
, D5 x7 c& @8 ]" K, K, m/ [0 e6 l  
# t9 C6 m* d. _6 z: b4 f/ W: J  j6 f$ n折射率为1.6-1.8的中折射率的膜料

　　有许多应用需要用到中折射率的膜料,例如增透膜,分光片,偏光器等。现有合适的膜料有以下几种：
. c$ w# {1 q3 e. ^*氧化物：氧化铝，氧化镁，氧化钇
4 E3 c/ B, T2 h0 V# H: y*氟化物：氟化铅，氟化铈，氟化镧，氟化钕和其它稀有金属的氟化物
*混合物：M1，M2，M3
# z, s" \( s8 f& K- V6 f　　表1：可生成中折射率膜层的物质
物质
2 I7 s# E: T2 L  y熔化温度℃
蒸发温度℃
550nm时折射率
* Q1 ^& b% `+ B% m3 T3 r* p' C透过范围
AL2O3
) A& C7 K  H9 \3 V+ W5 r2046
2000-2200
* `7 K5 O# T. ?8 I) @2 a1.63
200-5000
MgO
9 M( W4 d& {# h! r' [8 [9 @" L2640
1700-1900
. ?: }+ l$ Y* K2 A% W1.7
, l# Z. ~6 ^6 k5 l$ V6 Y200-8000
Y2O3
2410
9 }! [& G8 F0 z  x# e) Q  ]~2300
* }+ \* k% G, ^% O% T0 ]1.79
4 V  G5 @  K9 X% D0 G; c250-8000
! H- h$ p9 M% o8 dLaF3
' P. m1 X3 M* S2 s9 d1495
1250-1450
1.6
CeF3
5 Q5 Q2 o& n# Z. H% f6 A; I# U/ }+ l1460
1200-1300
1.63
300-5000
NdF3
, y; A; ~9 g/ z1377
1200-1400
1.6
DyF3
- d7 N9 K6 k8 R. k3 ]2 {1155
( o$ v7 ~1 G$ r: n% P, J  Z# g1200-1400
$ w2 l: ^. Q4 `2 u/ J* C1.6
PbF2
4 X8 F& `& p$ S5 U) A855
900-1100
/ v8 U; q; A% X1.75
1 c' i: u9 L! f0 Z) F250-17000
M1
+ Z3 I- d& T" F! p2 u: R0 I~1700
~2100
' g- n4 b( r1 [  H  v, S& @1.7
300-9000
M2
8 ?; N; S# y9 t6 D, {& n% t! g~1900
# z; l& P" I2 L/ D1 g" h3 i~2100
% {! \% }' D1 s. O7 U1 ^1.7
$ r# F5 e! w' i220-10000
M3
% |' H$ w6 ?9 ?+ t~1900
$ D, T3 [9 E' ^- Y1 G; _5 U* X~2100
/ }& ~- T' J3 m( N$ s) j1.8
$ c( R. J/ v- m4 }0 s3 R220-10000
2 e6 Z" t5 o' `( U氧化铝：
) o. W" s. Z4 i0 n是一种传统的物质，它的膜层相当的坚硬，牢固，在紫外，可见光和红外光范围内几乎没有吸收。氧化铝只能用电子枪蒸镀。氧化铝最大的缺点是它的蒸发温度和熔化温度十分接近，因此，在蒸发时氧化铝熔化很薄的一层，导致膜厚颁布很差。在应用方面，氧化铝经常被用来在眼镜，照相机或相似的产品上镀增透膜。它也可以被用在紫外和红外应用。
8 c/ t- S  ~" Z" W6 r氧化镁：
氧化镁很少被用来作为蒸发材料。它在500nm的时候，折射率为1.7到1.75,透光范围从220到8000nm,氧化镁的膜层对湿度和二氧化碳十分敏感,它的升华保持膜层厚度均匀变的很难。
2 a1 y- O' j/ t, i  U4 t  `; n氧化钇：
/ {; ^( n8 O  a8 O( E6 G氧化钇在500nm时的折射率为1.8,透过范围从250到8000nm.它在蒸发时只在表面有很薄的一层熔化,常常会引起膜层表面的粗糙和裂缝,因此,用氧化钇很难获得均一的膜厚。
+ t  C% c1 E1 h: {! c0 q) n氟化铈：
和氟化镁一起用来作为两层增透膜的中折射率材料.55nm时的折射率为1.63.透过范围从300到10000nm.用氟化铈镀的膜层最大的缺点是不坚固,并且同次性很差.它的折射率随膜厚的增加而变大。
氟化镧,氟化钕和氟化镝：
在550nm时的折射率为1.6.但是,很难在增透膜中应用,在紫外应用中很重要。
( O' z; N2 W7 v# A& [9 h' }氟化铅：
主要应用在红外领域中。
/ `" w/ D% x9 G  SM1,M2，M3：
这是默克为克服氧化铝的缺点而开发的新膜料.M1,M2在500nm时的折射率为1.7,M1的透过范围从300到9000nm,M2的透过范围从220到9000nm,M1和M2只能用电子束来蒸发.M1和M2在蒸发前就完全熔化,可镀在加热或未加热的基片上.膜层相当密集,并且暴露在空气中不湿气的影响。M3在500nm时的折射率为1.8.它的蒸发温度和熔化温度很接近,因此,必须小心的控制。M1,M2,M3的折射率受蒸发速率及氧气压力的影响很小,并且,即使在多次熔化蒸镀及不断的膜料补给的情况下,折射率仍相当稳定。M1,M2和M3的应用包括增透膜,分光片,偏光片等。
; `8 A! t! a  e& E# r1 N% M/ N! mM1,M2和M3的应用

7 f  j" j% P& D7 Z2 |　　M1,M2和M3的应用包括增透膜,分光片,偏光片等，实例如下：
　　M2十分合适和MgF2一起在接合的玻璃镜上组成分光偏振片。在折射率为1.52的玻璃棱镜上,当入射角为45度时,P的反射几乎消失了.此膜层特别适合于LCD投影系统中。
  \) f% U, I) ?" O# s' h/ Z　　膜层设计：1.52-(HL)10H-1.52(21层) L:MgF2,n=1.38? H:M2,n=1.7入射角为45度，设计波长为500nm，S在500nm时的反射为99.94%，P为0.005%.P在整个波段的反射小于0.01%(如图1)
　　M2也十分适合在高折射率(n=1.625)的玻璃上镀宽带增透膜.最简单的设计是三层膜:基片(n=1.625)-1.7(λ/4)-2.1(λ/2)-1.38(λ/4)-1(λ0=510nm)反射曲线如图2所示.在415到660nm的波段上反射小于0.5%。


) Z4 n. Q& x* z  g0 f! x图1

! `  Y& i! F. o6 r2 o7 r/ Q

　　M1在从近红光到近紫外的波段内有很高的透过率,在300nm时有吸收.它也能从熔化的状态下被蒸发,具有良好的同次性和均匀的膜厚.此物质适合于在高折射率的镜片上镀增透膜.图4显示了在高折射率(n=1.625)的玻璃基底上用Al2O3(n=1.65)M1和(n=1.7)的3层增透膜的反射曲线的比较.从中可以看出用M1的效果要好得多．

  `+ a. x) |- m/ h1 o　　我们也可以仅用氧化物来镀增透膜.图5显示了用SiO2(n=1.46)和H4(n=2.15)的膜系,当然膜厚不再是简单的1/2或1/4光学厚度.有时候会需要很薄的膜厚,在膜厚和折射率上微小的变动都会有很大的影响,因此相对于经典的3层膜系来说要难得很多.从中可以看出,3层膜在中间波段有最低的反射率,但是4层膜C有着3层膜无法实现的从400到700nm宽广的低于0.5%的反射。
1 }9 G) M: C2 b, W' i' o5 s+ S7 s, `
& e7 v0 E( l7 Y6 A8 c用于塑料基底的增透膜
; U" f2 Q$ {5 _7 C
* v8 p$ @, a" T, \　　在塑料基底上镀膜,我们无法在镀膜过程中加热基底.因此,我们必须在膜料的选择上倍加小心,以确保它能在低温下形成稳定的膜层.此外,由于温度偏低,折射率也随之变低,因此,相应的膜定的膜层.此外,由于温度偏低,折射率也随之变低,因此,相应的膜层设计也要改变.MgF2不能在低温下被蒸镀，因为只有在200℃以上的温度时它才能形成稳定的膜层。因此，我们只能选择氧化物来蒸镀。
　　我们可以使用下列氧化物：
* I/ {8 C  B" y1 d$ }6 i( a4 Q7 ?品名
在塑料基底上的折射率
$ v% B* R2 P5 y0 l2 P% {* GSiO2
1.45
+ [5 S1 q7 G8 q2 u- j6 s1 B! L: J+ qAl2O3
! N5 q. i9 h$ f' v' u' w1.62
2 R3 \% q" Q# d$ o4 H  KM1
1.65
Y2O3
1.8
/ N$ G: X9 f1 C8 ]6 C* [& a( iZrO2
1.9
H1
4 l3 o; M) J0 c& n1.95
8 V# S2 Q8 b  c4 q* B8 S5 gH4
- }$ M% v& b# @* c$ @7 x1.95
4 K7 W3 E9 r1 _7 a$ v* q" |( ~: NTiO2
1.9-2.0
; u4 N/ x" C+ s' d5 N　　H2不能在低温下被蒸镀，因为它在蓝光波段有吸收。
　　最常用的塑料基底是：
6 y; \. j, m! e; u( \品名
在塑料基底上的折射率
0 O! @  j" p+ }7 s  ~7 u, h5 t4 ECR39
1.5
! \2 z* g. |" z聚碳酸酯
5 ~5 e' V6 E+ y( r$ R- N1 Q1.59
PMMA
; [% |. W* @( X, `6 e1.48-1.50
$ y* k( J6 z/ e. T# I　　下图显示了由M1,H4T和SiO2组成的3层增透膜的反射曲线,在从390到750nm的波段上的反射率小于1%.同时,一个5层膜也被显示在图上作为比较落后,它的反射曲线在415到680nm的波段上反射率小于1%,并且在中间波段有相当低的反射率。

5 [/ y( Q7 h% i9 o; I  W2 R1 w　　下图显示了由M1,H4,SiO2组成的3层增透膜在聚碳酯基底上的反射曲线，在从390到750nm的波段上反射率小于1%。同时，一个5层膜也被显示在图上作为比较，它的反射曲线的低反射段比较窄，但是在中间波段有相当低的反射率。

tfc3.5

理论的找做磨料的就行

gchtang

gds 你太强了 111

飞鸿2009

好东西哦i
( J1 _! Q* }7 L) V。。。。。。。。。

mxbplayboy

学习中！！！！