哪位好心人能发H4的材料库数据给我，谢谢了！！！

doudou1592

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gds

还是根据自己机器镀制后测量计算适合自己

1 x- a' k0 m. G6 y7 {( J. q1 j4 v下面的也许对你有用：
0 b# D/ K4 ?- d$ |/ y" ]8 I  f
镀膜材料
; q# E1 l, q+ ?+ _9 l2008-01-02 20:28:14
TiC、CrC、TiN、TiCN、TiAlN、TiO2
% s" r* i; g4 B1 {* n' a0 @2 kH4膜料的特性.膜料为一高折射率材料. 使用两种膜料来镀增透膜,SiO2通常被作为低折射率的膜料,氧化锆, 氧化钽通常被作为高折射率的膜料.然而,H4也是一种优异的高折射率膜料,优点如下：
　　TiO2:由于折射率太高不能被利用。
  p$ }% O: J1 ^$ X　　*稳定的折射率(即使从一个坩埚中沉积次数
　　*高度的均匀性
+ Y- f* ~* M& z# O" s　　*高透光率的膜层
　　H4和SiO2一起使用也可以在未加热的基片上形成坚硬,没有吸收的膜层,因此,它是应用在树脂眼镜片上很好的膜料.H4也可以被应用在离子辅助沉积法中(IAD,IBAD)。
　　综上所述,H4在大多数增透膜上有着其它膜料无法比拟的合优势.但是,在紫外应用中,H4则不能被考虑,此时;紫外级别的HfO2可适用。

8 t9 O# K0 t  c( Y7 Q  @) D. y1 j$ q默克公司Patinal镀膜材料类别及特性
! x4 [2 F6 P3 H4 `1 [* B类别
' Z3 }9 b  p) k- i1 n材料名称
. L7 H  H* ?/ m  p* T) ~规格
折射率
, {% Y; O- r8 N% ^$ q( i% y透过范围
) `* I7 Y, Y0 K( c蒸发温度(℃)
蒸发源
非金属膜料
/ N: [0 N; P- uMgF2
5 ~$ a- K! g  j. G# p1-2.5mm
1.38at550nm
( K  |/ p- ?) ]200-7000nm
1300-1600
E.Mo,Ta,W
Si02
1-4mm
8 G8 w/ ]* i6 q2 _! G  f6 x1.46at500nm
200-2000nm
1800-2200
/ U1 m. n0 W9 p* W: qE
CeF3
; }) Z6 A( A+ W9 d& U' @% [! h1mm,1-4mm
0 @' L" Q7 r, n! D# r. [, o+ q1.63at500nm
300-5000nm
7 y3 r3 N0 B9 u0 N6 E2 _  G5 E+ n1400-1600
, I( H" l' U1 J8 ?4 YE.Ta
: x7 I: f2 ]5 I% Q" D! P' \% OAJ203
1-3mm
1.63at550nm
  ]+ r! u& D' g200-5000nm
" W: _; h0 v: Y9 H: y6 \6 e  i$ |2000-2200
% @/ ]6 U6 ?2 q4 D) S( g& u" ?E
Si0
) |7 `: s1 W6 ]4 w粉末、颗料
% m. G: b) E7 L7 }0 O1 ^1.8at1000nm
800-8000nm
& i/ S* q8 N$ g1200-1600
  g" L+ \6 Z( _+ |& p- d5 UE.Mo,Ta,W
Zr02
9 i$ Z8 D5 V* m2 v颗粒、片状
: d9 k! C' D' P: f( v" [2.05at500nm
320-7000nm
: @! t0 h, s8 r% e' X7 O& v6 Z" u约2500
5 x, _/ |. F$ ^$ [E
Ta205
颗粒、片状
2.1at500nm
7 q. b9 U4 w8 _5 U& K350-7000nm
2 g3 Y; [4 D) K0 @0 r# k# ]1900-2200
E
  [* r3 n" f4 w1 {# c8 p6 c% eNb205
1-4mm
" l& U* p; [) g" D: U0 z2.3at500nm
350-7000nm
: u7 }8 A: R& R  s0 l/ d5 K6 X3 |/ @1800-1900
  T. P; J5 _/ M: S7 cE
Ti02
) y  [; {. w/ u: q13.5*6mm
" f- ?) m  t" o! e3 g2.4at500nm
400-12000nm
2000-2200
E
Ti203
$ p/ _' o4 U( T( T! T10.4*5.1mm
0 }) B4 q: l& l6 S2.4at500nm
400-12000nm
1800-2000
E,Ta,W
Ce02
1-4mm,2-3mm
, w. ?9 y9 W  L3 `& g3 O8 d6 d2.0at500nm
& \# c) ?$ }8 R! j3 z, s400-16000nm
4 u) P# B: R6 b+ g约2000
. K0 c5 `( U  W) p  ^& \E
( u2 v+ g8 P4 ], R6 b特殊混合膜料
Ti0S
% ]4 m5 r3 u& V1 D- e! m1.4mm
2.4at500nm
360-12000nm
# z3 Z$ P: d* v+ d, r0 A1800-2000
6 E& U9 |2 X# |# D/ c8 U& f/ fE,Ta,W
H5
0.5-2mm,1-4mm
2.2at500nm
% H, R- `* f8 J1 u" A3 P) u8 [350-7000nm
+ z; g: W: Z. }5 x2 t约2000
E
H2
  U* o7 u; l/ ~# t8 I2 w( {1-4mm
4 s& G% ^6 y4 d2.1at500nm
400-5000nm
2000-2200
% c% ~  g" y; c3 w9 a2 w+ N3 b4 eE,W
H4
' X8 M: H7 j5 H( g% J2 A; E1-4mm
2.1at500nm
: }: B) D6 A8 |360-7000nm
% _7 e" ]8 w$ w0 a3 D2200-2300
% K: p8 ]- E- o6 B5 v- n7 C5 \+ C( SE,Mo
1 \. \8 N( J: `4 f# @1 PM1
& `  c" C5 A2 \3 r1-4mm
1 z0 J7 p* `7 d1.7at500nm
300-9000nm
. t3 \# M" F  A- Y% i2100-2200
9 `0 j. x( N; T8 aE
6 @3 T0 I& b- k( l+ x5 Q! CM2
) k8 G2 T) \5 b# N% W. {1-4mm
% P7 [( t+ D: L5 d' ]# L1.7at500nm
210-10000nm
2000-2200
1 y* s/ F" p, J) V0 [" ME
M3
1-4mm
0 c' C! [1 G. P9 Z# n1.8at500nm
" Z1 Q, o: @6 t4 H' R220-10000nm
约2100
/ ]' P& P8 y/ N/ }E,Mo
  b" E) J# ?) y4 h$ t0 L" g; EL5
0.5-4mm
) ]2 A) c7 w7 v9 x3 k0 c$ H+ e2 d. w. F1.48at500nm
300-7000nm
约2000
7 m, i% k4 M( k) AE
WR1
7*5mm,11*10mm
. L, O& k. O3 o% l1.5at500nm
380-700nm
1 v9 l1 ]6 q# Q3 s# x360-450
Mo
WR2
11*5mm
1.5at500nm
380-700nm
360-450
E,Mo
/ n5 J+ j6 {0 c9 `9 F0 i# bWR3
11*8mm
1.3at500nm
380-700nm
350-500
Mo
% E) u& x0 u4 R  H( e$ }. zH4膜料的特性[/url]
/ r1 A. {0 ~4 i　　
2 C4 `% w0 o7 V# d4 I1 W7 N2 _一、H4膜料的特性
" u9 i3 V$ L. f3 r, q成分
3 z: k) v6 Y4 c- w$ V, _8 R钛镧混合物
外观
1-4mm的黑色颗粒
密度
4 q) I; Y! n' }5.9g/cm3
! y7 p5 x, ?8 ]; l; G1 r& Q* {熔化温度
1800℃
沉积温度
9 x4 }  O( f# J4 F& M2200-2300℃
; w; ~/ G7 }# G& d( p沉积源
电子束
坩埚
铜或钼
/ r* h, _) n* Q/ y: }3 B  I$ B氧气压力
! G: E/ ~# }* ^; B" M" z0.8-2×10-4
沉积速率
0.2-0.8 nm/秒
$ h+ y( [$ [( ]' Q& \2 h- r基片温度
大约30-300 ℃
1 f: K% C' ^4 T二、H4膜层的特性
  ~% `" P% ]5 C基片温度
+ Q% j1 f! m# u4 x! X大约30℃ 300℃
+ {, {) Y+ |; ^1 q. R500nm时的折射率
) g6 F) K  \8 c! k4 N' J  r, O1.99 2.12
  j8 m( O: w8 o# M* {400 nm时的吸收
2 h, g' k1 G% \吸收边缘
% J( B9 y; A3 K) \+ o300nm
*吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。
' |2 h0 ]- V. |/ b8 y. ]三、折射率的散布
基片温度
散布公式
" {$ a' q* s) C: e大约30 ℃
: o2 _$ q5 {9 K  b' an=1.887+25410/波长2
100 ℃
4 B" R) g& O9 S! b, ?$ _3 hn=1.982+29820/波长2
300 ℃
' ?* J& E; P6 ~n=2.009+28880/波长2
[url=http://www.jinyu-opt.com.cn/detailed/detailed01-2.html]可获得高折射率膜层的膜料
　　　有许多膜料可以得到高折射率的膜层(>2.0在500nm)。我们可以提供以下几种氧化(TiO2,TiOS,Ti2O3,Ti3O5,TiO),氧佛钽，氧化锆，氧化铪以及硫化锌。我们同时也提供独有的我我H1，H2，H4。
" v8 h% d+ n4 b/ B2 k表1：可获得高折射率膜层的膜料的较
膜料
& j) B" p( x: A8 d大约在500nm的折射率
7 p# }& H+ L! @4 D8 u透光范围
氧化钛
2.4
! D3 U/ d0 h8 p6 ]0 K0 b8 Q' y400-12000nm
) i" \' ]2 R, i氧化锆
0 J) H7 |+ P1 H7 \2.0
320-7000nm
% o/ ]% e) h: [& x! ?氧化铪
2.0
3 I; R2 Y& I- b8 N( l0 p- `0 D  p1 n230-7000nm
氧化钽
2.1
7 W# L9 J9 e6 H# H& q350-7000nm
物质H1
2.1
360-7000nm
物质H2
2.1
400-7000nm
( P. i6 @/ R, w  d物质H4
( P+ [6 @) t+ X" P4 B2 ~0 a" C2.1
% T! a0 x2 Q) s1 j360
高折射率膜料的比较
膜料
特性
TIO2
3 M0 F" u& d! u3 R+400-12000nm的高透光率
# P; a0 Y  h$ Z6 I0 i+从熔化的状态下沉积
% D5 h+ N, T& ?) d+一致的沉积 -2.4过高的折射率
4 x. ]$ X& O) g# R9 u  d; _-熔化时有氧气放出 熔化时有溅射
Ta2O5
! M7 B# n$ i# \7 f9 J6 G: ~+350-7000nm高透光率
+2.1的折射率
9 ^+ B0 l5 |# ^) r+从溶化的状态下沉积
% X3 A& V" V4 Z2 f% C+一致的沉积
# w: l# I; C4 H/ g' I' y5 C1 ]4 v-熔化时有氧气放出
- R9 K- V+ _0 S( m: M-使用中会变成低态氧化物
/ h0 n$ G1 K) b% C0 I-蒸镀后需锻烧
; P$ H, _2 N% D  \, n  iZrO2
+320-7000nm的高透光率
2 Z2 b0 C, }/ j+坚硬,牢固的膜层
-2.05偏低的折射率
- f+ J. V1 L8 r2 V-不均匀的膜层
- W/ E7 _4 f, m-蒸镀时不熔化
-不一致的膜厚
H1
+360-7000nm的高透光率
" q  {7 S4 ~8 Y0 U7 \% ]+2.1的折射率
; H4 _5 w! b( E5 Q" U2 l+ d+坚硬,牢固的膜层
+均匀的膜层
-蒸镀时不熔化,难操作
-不一致的膜厚
H2
+坚硬,牢固的膜层
& n  N* m" a) H+2.1的折射率
8 P% D' ~, w+ U3 c+一致的膜层
+蒸镀前熔化,易于操作
( c1 e3 B7 v1 i8 h: G- G+一致的膜厚
$ _. W/ |5 ~7 [1 t4 p: k-400nm以下的低透光率
H4
8 H* `; H3 G7 e+ Q% U+ L+360-7000nm的高透光率
, k: m& i; P; i) I8 G6 A2 }! v: m+对可见光无吸收
4 ~& r# h9 w  |  l0 Y& N5 P+2.1的折射率
+均匀的膜层
- W, m2 o! ^0 x, r+沉积前熔化
5 }1 u1 m) R* e* f, A! U: M+一致的膜厚
, {1 i3 w5 K1 {+适合在塑料上蒸镀
TiOS膜料Patinal

0 {+ J/ C: c. D0 W5 c8 o# S　　氧化钛是构成应用在可见光和近红外光谱范围内的反射镜,分光片,偏振片和滤光片的重要
膜层。在真空镀膜中,氧化钛膜层有着最高的折射率.SiO2/TiO2膜层设计有着很高的对比折射率,
" {5 w0 A" Y  P7 v5 S被广泛应用在多层膜中。氧化钛薄膜可由钛的各种氧化物,甚至钛金属来蒸镀得到.如果用传统
的方法来蒸镀钛金属和TiO,很难得到没有吸收的膜层.用Ti2O3和TiO2,在优化的沉积速率,氧气
压力和基片温度下,可以得到低吸收,高折射率的薄膜。
# v8 l- ~- k8 {( u1 B" `' _　　TiO2在加热和熔化过程中会释放大量的氧气.即使进行充分的预热,溅射还是不可避免的.在
这个过程中,膜料还是不可避免的.在这个过程中,膜料的成分会发生变化,直到氧和钛达到一个
+ f* Y* @, i5 A4 G6 b+ O  W稳定的比率.在长时间的蒸镀后,熔化的成分变成TiOx,X的值大致为1.7.X射线分析显示,熔化物
9 Z# O7 S5 D+ t$ d) c的晶体结构为Ti3O5加上少量的Ti4O7。为了减少溅射并得到稳定光学特征的膜层,在蒸镀前必
需进行好几步的预熔。
( e3 e3 `  N- {6 s7 U% `　　为了避免时间的预热,减少溅射,默克发明了一种新的膜料TiO S颗粒。TiO S的成分和熔化
物TiO2一致,因此,只要很短的预热时间便可进行蒸镀。
TiOS熔化物的成分在蒸镀过程中不会发生改变,因此可以得到均一的膜层和稳定的折射率。
1 h( L1 }' d) K& k# xTiOS的成分为TiOx,X的值为1.7,在Ti3O5(=1.667) 和Ti4O7(=1.75)中间。
6 A/ ]7 {# E4 V% _) v- T  
9 i3 b" M2 [( k1 W' D+ T3 B折射率为1.6-1.8的中折射率的膜料
2 ~( v( m9 Y! x) o6 g. J
9 ], b( M: {) ?6 _　　有许多应用需要用到中折射率的膜料,例如增透膜,分光片,偏光器等。现有合适的膜料有以下几种：
*氧化物：氧化铝，氧化镁，氧化钇
*氟化物：氟化铅，氟化铈，氟化镧，氟化钕和其它稀有金属的氟化物
*混合物：M1，M2，M3
. x: w- ^0 I  u2 F2 W  @　　表1：可生成中折射率膜层的物质
" L2 s+ O( s2 P物质
熔化温度℃
$ |' R" }, E: T8 F3 E$ |蒸发温度℃
& a1 d' p4 ~3 |& T550nm时折射率
/ G/ Q% M& `+ |透过范围
# C$ a" c5 Y+ f/ n0 mAL2O3
2046
% L5 c8 v/ `8 ^: E& W) Y3 n; O. ?2000-2200
1.63
200-5000
MgO
& g, Q8 n! U, e7 _2640
1700-1900
, S! c$ X9 A2 }. r, V7 w& `5 R1.7
200-8000
Y2O3
5 Y. l6 h) I+ n2410
. R/ K7 O$ }0 `, d/ E5 `~2300
4 K& d) p& |7 b& \4 `+ f1.79
250-8000
# V) L" {6 U5 s1 q# ~LaF3
" u' \, N; s# F: H1495
1250-1450
3 B+ P  `1 G: e* a. G1.6
5 Z# c" o! ]/ N/ D) f& \CeF3
6 B+ @, T5 c4 ]8 b1 Z0 O7 F$ ]( P7 ]1460
1200-1300
1.63
, \! F& D: y& k( i8 ~300-5000
: u/ `7 A! j  s8 w2 {NdF3
0 E/ q' O7 B. I& b1377
1200-1400
) V( p  _, F% e; L$ U* q1.6
  i" Z4 ]. s, i+ z0 P( V+ n& WDyF3
4 ?* h! R# T' Z2 Q1155
3 V# s9 x6 r4 K* P9 m1200-1400
7 D# O5 N. m& K) e7 L% h3 U1.6
7 ?9 d7 n/ y: [& v5 Y* _0 _! K+ PPbF2
855
$ P3 h# _0 k7 |" t6 z900-1100
/ X+ S2 b6 d+ Y2 g1.75
5 b2 t, C; P/ W( Q; A, Z3 [6 D250-17000
M1
~1700
' l3 a6 I: u* I~2100
1.7
300-9000
M2
~1900
- S- a: C( m. ]4 W~2100
' y! j4 ]; w9 F4 k7 F3 j( Q1.7
220-10000
M3
) s0 s) }3 m5 I1 J1 }0 D~1900
~2100
% b" ]6 J4 h9 @+ k5 V9 X( n- W1.8
% ^2 D. p9 V  X# n220-10000
氧化铝：
8 q& I( R, j- ~+ i是一种传统的物质，它的膜层相当的坚硬，牢固，在紫外，可见光和红外光范围内几乎没有吸收。氧化铝只能用电子枪蒸镀。氧化铝最大的缺点是它的蒸发温度和熔化温度十分接近，因此，在蒸发时氧化铝熔化很薄的一层，导致膜厚颁布很差。在应用方面，氧化铝经常被用来在眼镜，照相机或相似的产品上镀增透膜。它也可以被用在紫外和红外应用。
, X  P2 V8 F6 c2 H" S: `5 R氧化镁：
* B; B; V. k+ C% @氧化镁很少被用来作为蒸发材料。它在500nm的时候，折射率为1.7到1.75,透光范围从220到8000nm,氧化镁的膜层对湿度和二氧化碳十分敏感,它的升华保持膜层厚度均匀变的很难。
氧化钇：
氧化钇在500nm时的折射率为1.8,透过范围从250到8000nm.它在蒸发时只在表面有很薄的一层熔化,常常会引起膜层表面的粗糙和裂缝,因此,用氧化钇很难获得均一的膜厚。
7 z' Q  [" v& @4 X氟化铈：
9 f% l5 |- s4 j, O和氟化镁一起用来作为两层增透膜的中折射率材料.55nm时的折射率为1.63.透过范围从300到10000nm.用氟化铈镀的膜层最大的缺点是不坚固,并且同次性很差.它的折射率随膜厚的增加而变大。
氟化镧,氟化钕和氟化镝：
在550nm时的折射率为1.6.但是,很难在增透膜中应用,在紫外应用中很重要。
氟化铅：
主要应用在红外领域中。
: S7 v/ y  S. ^5 JM1,M2，M3：
& E( F4 O+ s! O" B' X这是默克为克服氧化铝的缺点而开发的新膜料.M1,M2在500nm时的折射率为1.7,M1的透过范围从300到9000nm,M2的透过范围从220到9000nm,M1和M2只能用电子束来蒸发.M1和M2在蒸发前就完全熔化,可镀在加热或未加热的基片上.膜层相当密集,并且暴露在空气中不湿气的影响。M3在500nm时的折射率为1.8.它的蒸发温度和熔化温度很接近,因此,必须小心的控制。M1,M2,M3的折射率受蒸发速率及氧气压力的影响很小,并且,即使在多次熔化蒸镀及不断的膜料补给的情况下,折射率仍相当稳定。M1,M2和M3的应用包括增透膜,分光片,偏光片等。
1 Q, T# K+ c- P: p6 X7 `$ SM1,M2和M3的应用

　　M1,M2和M3的应用包括增透膜,分光片,偏光片等，实例如下：
3 b0 g% P/ r  b  o　　M2十分合适和MgF2一起在接合的玻璃镜上组成分光偏振片。在折射率为1.52的玻璃棱镜上,当入射角为45度时,P的反射几乎消失了.此膜层特别适合于LCD投影系统中。
5 l! h( Q, i' F　　膜层设计：1.52-(HL)10H-1.52(21层) L:MgF2,n=1.38? H:M2,n=1.7入射角为45度，设计波长为500nm，S在500nm时的反射为99.94%，P为0.005%.P在整个波段的反射小于0.01%(如图1)
　　M2也十分适合在高折射率(n=1.625)的玻璃上镀宽带增透膜.最简单的设计是三层膜:基片(n=1.625)-1.7(λ/4)-2.1(λ/2)-1.38(λ/4)-1(λ0=510nm)反射曲线如图2所示.在415到660nm的波段上反射小于0.5%。


" J# X2 ^( X. d3 a# x- U图1
7 L! j# G2 [% O/ K( \

% Y5 f/ d3 I# ]/ z' r
! b4 P+ ?  b2 n* m; ?4 v　　M1在从近红光到近紫外的波段内有很高的透过率,在300nm时有吸收.它也能从熔化的状态下被蒸发,具有良好的同次性和均匀的膜厚.此物质适合于在高折射率的镜片上镀增透膜.图4显示了在高折射率(n=1.625)的玻璃基底上用Al2O3(n=1.65)M1和(n=1.7)的3层增透膜的反射曲线的比较.从中可以看出用M1的效果要好得多．
/ o* d% e: T9 M8 U
　　我们也可以仅用氧化物来镀增透膜.图5显示了用SiO2(n=1.46)和H4(n=2.15)的膜系,当然膜厚不再是简单的1/2或1/4光学厚度.有时候会需要很薄的膜厚,在膜厚和折射率上微小的变动都会有很大的影响,因此相对于经典的3层膜系来说要难得很多.从中可以看出,3层膜在中间波段有最低的反射率,但是4层膜C有着3层膜无法实现的从400到700nm宽广的低于0.5%的反射。

用于塑料基底的增透膜
2 I0 W8 B# D$ I9 G
　　在塑料基底上镀膜,我们无法在镀膜过程中加热基底.因此,我们必须在膜料的选择上倍加小心,以确保它能在低温下形成稳定的膜层.此外,由于温度偏低,折射率也随之变低,因此,相应的膜定的膜层.此外,由于温度偏低,折射率也随之变低,因此,相应的膜层设计也要改变.MgF2不能在低温下被蒸镀，因为只有在200℃以上的温度时它才能形成稳定的膜层。因此，我们只能选择氧化物来蒸镀。
　　我们可以使用下列氧化物：
* n# |) h# q$ f7 v  H品名
. }; a5 P" S; T( Y" ~在塑料基底上的折射率
SiO2
$ j$ t: S3 w! B) m6 b/ J1.45
Al2O3
5 U. |1 `' t2 _( C) S, e) V0 P1.62
4 T1 I. m3 b2 G2 X  U9 A: S1 Z0 UM1
- K  k% W) G5 k; m% ]. @1.65
4 G7 _4 K# |) q' X2 ^8 _% t( [Y2O3
% V$ ]6 p' h- _1.8
ZrO2
1.9
H1
) A6 ~+ S6 ~8 X1 g1.95
" Z$ X7 N0 P" vH4
1.95
$ Y7 _. s8 s3 K/ O+ WTiO2
1.9-2.0
　　H2不能在低温下被蒸镀，因为它在蓝光波段有吸收。
　　最常用的塑料基底是：
品名
在塑料基底上的折射率
1 [8 H$ x- Y- u+ q0 N2 M- x" \) QCR39
1.5
聚碳酸酯
# K: R5 W9 r. _1 K7 f1.59
! \% b% l7 I% X" D( I: wPMMA
( \/ G* x2 A4 e1.48-1.50
8 M2 c. h7 C3 M- x- ~　　下图显示了由M1,H4T和SiO2组成的3层增透膜的反射曲线,在从390到750nm的波段上的反射率小于1%.同时,一个5层膜也被显示在图上作为比较落后,它的反射曲线在415到680nm的波段上反射率小于1%,并且在中间波段有相当低的反射率。
$ j, I' }2 {% \! b
　　下图显示了由M1,H4,SiO2组成的3层增透膜在聚碳酯基底上的反射曲线，在从390到750nm的波段上反射率小于1%。同时，一个5层膜也被显示在图上作为比较，它的反射曲线的低反射段比较窄，但是在中间波段有相当低的反射率。

tfc3.5

理论的找做磨料的就行

gchtang

gds 你太强了 111

飞鸿2009

好东西哦i
。。。。。。。。。

mxbplayboy

学习中！！！！