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[薄膜文献] ITO材料在减反射膜设计中的应用

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发表于 2009-8-9 18:35:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
ITO材料在减反射膜设计中的应用
0 p  H$ Y5 k7 }徐颖 高劲松 王笑夷 陈红 王彤彤中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,长春130022摘 要:改变ITO材料通常作为透明导电膜单独使用的状况,将其作为减反射膜系中的一层,能够在很大程度上增加ITO透明导电膜在可见光部分的透过率。通过使用将ITO材料置于膜系的内层和最外层两类不同的设计思想,可以使ITO透明导电膜达到相当优良的应用效果,使用低压反应离子镀方法制备了设计的两类减反射膜系,实验证明,膜层在可见光部分的透过率显著提高,剩余反射率明显下降,并得到了平均透过率为95.83%,最高透过率达到97.26%,方块电阻为13.2~24.6Ω/□的试验结果。[著者文摘]
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关键词:ITO透明导电膜 低压反应离子镀 方块电阻 减反射膜
) q; T( ?  V) R; P# F: a9 t5 h1 U分类号: O484 TN304[著者标引]文献标识码:A文章编号:栏目信息:光学材料0 Q2 a( _0 H! J" a+ P+ |% w2 o) j
相关文献:主题相关 , t) b% O- h1 h0 e" A# h: @" ^

* L8 R; f' ~/ H/ e5 D7 y9 DAntireflective Thin Film Design Using ITO MaterialXu Ying;Gao JinSong;Wang XiaoYi;Chen Gong;Wang TongTongXu Ying;Gao JinSong;Wang XiaoYi;Chen Gong;Wang TongTongAbstract:Usually, ITO transparent conductive thin film is made up of only one layer of ITO material with the mean transmittance of nearly 9000 in the visible region of the spectrum. The results of using two different new design to produce antireflective film with ITO and deposition them by RLVIP technique are discussed. The mean optical transmittance of thin film of T=95.83% .the maximum transmittance of Tmax =97.26% and the sheet resistance of R□= 13.2~24.6Ω/□ are achieved by the design in experiments.2 u! H* U$ \. R9 H; I+ y
: r! a" }1 k9 y
Key words:ITO transparent conductive film; Reactive low voltage ion plating; Sheet Resistance; Antireflective film

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发表于 2009-8-10 13:46:48 | 显示全部楼层
老大,我们正准备做这样的膜层,先看看了,谢谢
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1028
发表于 2009-8-10 20:24:45 | 显示全部楼层
乖乖,这只能在实验室里,大量生产估计还是不行的哦
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发表于 2009-8-11 01:31:24 | 显示全部楼层
哈哈,正在使用中
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发表于 2009-8-11 05:08:22 | 显示全部楼层
看来中国在ITO材料方面很先进了啊。
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发表于 2009-8-13 00:26:18 | 显示全部楼层
及时雨,一起分享研究
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发表于 2009-9-16 00:45:25 | 显示全部楼层
KANKAN kank看看,谢谢分享
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发表于 2009-9-19 00:04:05 | 显示全部楼层
谢谢分享~谢谢分享~谢谢分享~
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发表于 2009-9-19 19:45:06 | 显示全部楼层
fdfdfsd支持下楼主~~楼主辛苦了。
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发表于 2009-9-19 19:45:33 | 显示全部楼层
gfgfdgfgfsdg1 N0 S) G: i. W0 V' N* L
"8 J0 t" f( ~+ X( F
支持下楼主~~楼主辛苦了。
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