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设计对1.064um和1.54um同时减反射的减反射膜,已知Ng=1.52,θo=0.
6 t% e9 [4 m( R0 r0 e$ ~& W要求:R(1.064)<0.2%+ w; l- C0 m# j8 D2 W
R(1.54)<0.4%7 D; t( Z% n2 v, [
给出这个器件的设计方案,膜厚监控波长
% Z. D& d0 H6 t& |: _6 R
7 ^4 J0 k0 T# A# ?; ]: ~' N( x0 ^. `4 U Q7 z' _7 Z
略解! U5 d" s0 S" d8 G' l1 `% O8 @
$ w9 O) ~9 \1 d0 @在别的论坛看到的
; n8 Y+ L3 @1 M3 @1 ~H 89.30
4 |4 b7 j0 F" TL 51.677 k. I, l. e7 q5 y x
H 130.10# P, z! R7 ^7 c0 `! m# U' m; I+ A
L 237.55
$ e, \; x) @' f. A以上采用1/4λ波长控制,膜料为TA2O5和SIO28 {6 M- E* r* h# o m4 T3 f# T8 k
膜料折射率为2.19和1.44
2 A% f7 g* m+ c* y6 [- L
, t3 w/ p$ U. a1 F' R! \5 MH代表TA2O5 L代表SIO2第一层720的光控一个极大值
* Y; S( \- b' b. |% }第二层460光控极小值: D% c- U% c- B7 A" O! O' \
第三层720的光控极小--极大回一点
3 j, U' u4 g. w& ?% Z1 w% p- V第四层720的光控极小--极大 |
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