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[求助] partical划痕怎么可以消除

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发表于 2009-8-8 05:25:01 | 显示全部楼层 |阅读模式
怎样消除partical划痕,最近镀增透膜时有大量partical划痕产生,有那位高手帮帮在下
发表于 2009-8-9 09:35:49 | 显示全部楼层
划痕具体什么样?
; K! y8 P1 O& t- @0 K% `  @是应力产生还是基底本身原因,擦洗原因。。
发表于 2009-8-10 22:22:34 | 显示全部楼层
没办法了,重做吧
 楼主| 发表于 2009-8-13 06:26:29 | 显示全部楼层
谢谢各位,基底没有问题、也不是檫洗原因,至于应力一直这么做没有出现,只是近来一个月才有,很多已经报废,大家想一下会不会是离子源、膜料(sio2)有问题大家给个建议,或者是其它方面的建议,一直找不到原因。
发表于 2009-8-15 21:57:55 | 显示全部楼层
是partical还是划痕,我认为这不是一种疵病,要分别对待的。
* s" o3 d6 F$ d+ d6 h' Bpartical:应该是点子,与真空环境、离子源、电子枪干净程度、SiO2材料(最好是进口的)等有关
- B3 S$ W( q& `1 F6 o6 `划痕:一般是基底的细小划痕,镀膜后显现(不考虑膜裂)

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 楼主| 发表于 2009-8-20 05:29:08 | 显示全部楼层
sio2是美国进口的,有做过一些电子枪对sio2熔融时间改变,但是效果不明显;真空洁净度符合要求,离子源、电子枪都还和以前一样干净;划痕可以排除。还是要感谢大家对我的帮助,我想求证:和离子源所充入的氩气多少是否有关?再次感谢!!!
发表于 2009-8-20 07:38:23 | 显示全部楼层
首先要确定你是在什莫条件下进行的检验?
 楼主| 发表于 2009-9-12 05:55:05 | 显示全部楼层
这种缺陷去日本也没有检验出来,在大学的专门仪器也没有检出,还有其他高招吗
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