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[转贴] 磁控溅射工艺控制模式比较

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发表于 2009-8-5 03:32:37 | 显示全部楼层 |阅读模式
磁控溅射工艺控制模式比较     : N$ B; Y" M# [, q) z

8 ]8 R& l( k0 F' m% I! e[会议论文] 郑舒颖, 陈少扬,2001 - 第十一届全国薄膜学术交流会 % q  p3 v! \- Z. z" S$ {

9 j) K6 O2 ^" W  s: C8 X对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较,分析各自的特色,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性.

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发表于 2009-8-7 03:30:25 | 显示全部楼层
很好的资料!
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发表于 2009-8-8 18:37:34 | 显示全部楼层
谢谢楼主
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QQ
发表于 2009-8-13 02:56:10 | 显示全部楼层
好东西,必顶!
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发表于 2009-8-13 03:03:15 | 显示全部楼层
怎么无法解压缩呢
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发表于 2009-8-13 03:21:07 | 显示全部楼层
真想下载看看
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发表于 2009-8-15 21:13:58 | 显示全部楼层
不错的资料。
( j" R: G- E+ r) U) F- A6 b不足是年代久远了点,2001年的~
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发表于 2009-8-21 19:22:51 | 显示全部楼层
非常感谢!!!!!!!!!!!!!!!!
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发表于 2009-8-31 03:48:28 | 显示全部楼层
好资料啊
, m) `. S7 t! G( p!!
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发表于 2009-11-1 23:01:00 | 显示全部楼层
我一定要下载下来
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