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RF磁控溅射工艺对TiNi(1-x)Cux金金薄膜组织形貌的影响 2 n C2 {' {" W' P/ [) n; C( ]
0 r7 H2 z+ t* P+ J[会议论文] 李亚东, 崔大奎, 骆苏华，2001 - 第八届全国青年材料科学技术研讨会
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本文研究了RF磁控溅射工艺对TiNi <,1-x>Cu <,x>合金薄膜组织形貌的影响规律.结果表明,在基片未加热的条件下溅射薄膜组织为非晶态,并呈柱状形貌.经650～720℃,3mins退火处理后,薄膜均发生晶化.同时表明,溅射功率和工作气... |
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发表于 2009-8-5 03:31:15
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