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红外光学薄膜材料ZnS靶材的研制
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4 b, l9 t1 E9 n5 W: v0 }+ K" n[期刊论文] 《广东有色金属学报》 - 2001年2期- 卢其云, 肖方明, 刘希诚
4 I p- E8 B. d0 g; ~, \' u
, k% o* n8 p/ \) ~. v/ l0 q在pH2～3、温度80～85℃的Zn2+溶液中通入H2S气体,制取高纯ZnS粉.将ZnS粉压制成形,通过高温烧结和快速冷却,可制成符合真空蒸发镀膜要求的ZnS靶材.ZnS靶的化学纯度及密度是影响镀膜质量的重要因素,烧结ZnS靶的表观密度为3.6... |
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发表于 2009-7-29 04:33:32
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