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最近碰到一个难题 u9 P6 x' c2 A
特殊材料如ZF51,lak20 c( `. e( o3 F" |6 k
镀AR膜,
. G) M% P1 k% N5 C, H% J$ t; q% d) V第一层开离子源,镀SIO25 F8 m% [$ K6 n* ?9 s. `$ k
镀完之后
H9 T0 c: G5 G& N7 S放置一两天
# ?7 \# V+ K" c- W! }& r( k3 ?. [: e基片就开始长印子,长路子
1 y- f. \: h3 \5 y8 q' O* N2 N+ k! i镀后光洁度很好
9 r$ Q& K) D& O1 P* m3 g$ {% L就是在生产过程中1 J4 q* j n6 E5 a% B
冷加工中间有加入硝酸锌
y5 b5 A( h; F5 n. t1 b其他工艺没变5 s E, R9 t h) J
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