[原创] 碩士論文- 使用反應濺鍍法於塑膠基板上製鍍抗反射膜之研究

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                                   摘要

       本文使用電漿監控系統及雙靶極(Dual Cathode)技術 ，進行穩定

的氧化物薄膜濺鍍製程，並將此製程使用於  Roll to Roll  塑膠膜濺鍍

設備上  ，控制精確的氧氣含量可得到穩定且高品質的氧化物薄膜 。由

控制靶極功率、氧氣流量及捲動速度可連續製鍍出多層膜光學膜。

      實驗結果顯示，使用雙靶極 (Dual   Cathode)技術製鍍出的 SiO2

  它的折射率(n)在波長 550nm時為  1.475081 而消光係數(k)為 0 ，為

相當好的濺鍍膜質 ，使用此系統可使濺鍍製程中保持較高的鍍率而靶

  材表面不至於被毒化。製鍍出的 ITO 導電光學膜其折射率(n)在波長

550nm時為  1.992696 ，消光係數(k)為 0.018572 。

      本實驗使用 SiO  及  ITO             材料交互堆疊濺鍍出多種光學膜，
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  ITO/SiO /ITO/PET的設計可得到反射率小於  2% ，穿透率大於92% ，
          2

面阻抗值為  500Ω/□  之具抗反射功能的 ITO 導電膜。若 加入薄金屬

層 Ag 材料的設計，使用 ITO/Ag/ITO/SiO /PET的設計可得到反射率
                                              2

  小於2% ，穿透率可達85% ，面阻抗3.2Ω/□  之超低面阻值、高穿

透率的 ITO 導電膜。使用 SiO /ITO/SiO /ITO/PET的四層抗反射膜設
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計，可得到反射率小於  0.6% ，穿透率大於93% ，面電值阻抗為3   X

    7(Ω/ )之 具有抗靜電功能的抗反射膜。而濺鍍抗反射膜於
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  HC/TAC的塑膠材料上，使用  SiO /ITO/SiO /ITO/HC/TAC 四層抗反
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射膜設計 ，可得到反射率 0.4% ，穿透率大於 94% 面，電值阻抗為 3 X

  107(Ω/ )之具有抗靜電功能的抗反射膜。
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