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热处理对ITO薄膜的显微结构及光电特性的影响

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发表于 2005-11-9 02:36:18 | 显示全部楼层 |阅读模式
<><FONT color=#6f6f6f>以硝酸铟和四氯化锡为源材料,无水乙醇和乙酰丙酮为溶剂,采用溶胶—凝胶工艺制备出纳米晶ITO透明导电薄膜.采用XRD和SEM分析了薄膜的物相和显微形貌,采用面电阻测量仪和分光光度计测量了薄膜的方阻和可见光透过率.实验结果表明,随着热处理温度升高,晶化程度提高,组织逐渐均匀致密,晶粒长大,700℃热处理时薄膜晶化趋于完善.同时,方阻减小而可见光透过率增加.经过700℃热处理、厚度为400nm的ITO膜的方阻约300Ω/□,可见光透过率&gt;80%.</FONT></P>5 W1 q4 q& |- F. n
<><BR></P>

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发表于 2006-4-3 21:32:13 | 显示全部楼层
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发表于 2006-4-3 22:20:58 | 显示全部楼层
好好学习一下
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发表于 2007-10-5 13:50:02 | 显示全部楼层
谢谢了,终于找到个能下载的
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