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推荐KMAC ST2000-DLXn光学薄膜测厚仪

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发表于 2009-3-11 14:44:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
  KMAC 简介; ?. Z, h2 E: J0 {: L4 s2 h; q$ X  Z$ [0 m

$ n, f# n: V% }- O) _( lK-MAC(株)公司附属韩国物理性质分析研究所,主要开发生产具有高科技含量的 物理化学分析仪器和应用仪器。K-MAC(株)公司在北京设有分公司,可为您提供 及时的售前、售后服务。方便您的研究、生产。# U* }3 r$ R6 X7 K4 ?* }
  设备简介: V' `0 X, [# N, V
1.特点
9 K9 o0 k7 k- M& m! d& Kl 操作简单易懂  l 非接触式、非破坏式测量方法  l 可同时测量多层膜厚度  l 原地测量  l 价 格合理
( v( K9 \; b4 C, `2.应用领域
( f& y3 r0 O2 C" T半导体    Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...
2 C: i2 e% O. f6 ~+ H, L# Z0 U2 Z绝缘材料    SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...+ }' ^' n8 u; c, E
聚合物    PVA, PET, PP, PR ...
2 g& I0 p  V' f- F/ y
2 |" O9 E( _' `* y- vLCD    a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide
9 T! t; Y9 Z2 b) V4 e$ ^0 nFilm
% h+ @6 S' j) U' Y; ?$ a( s光学镀层    Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
! q4 K0 l* }, I; E) [可纪录材料    Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...$ x6 P: M: M2 {- C, }
其它    Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser
- o8 I( C: r$ C$ bMirrors ...1 x5 I6 c# b% g/ M
3.可用的基片" L; E; _3 S5 p
Silicon    SOI    Al 2 O 3    Aluminium
4 k3 F: G0 M. N. ]) V6 YSOS    GaAs    Glass    ......
0 @$ K3 e: T! F9 r6 ]+ w' s软件
  X9 Q7 Q5 }+ d) c4 x" a⊙  实时测量
/ U0 d( S9 R# h! @# c" R⊙  再现性好(精度可达 1A 以下)
' |1 c% O; G5 z! L2 O/ y, P⊙  厚度及光学常数(折射率、消光系 数): X" h9 u. B6 ^
⊙  一次最多 3 层薄膜测量6 J# Y- S% [; E( g' J/ d
⊙  测量结果制图
9 E/ @' P5 U7 Q8 I⊙  X-Y-Z 移动控制
& G4 X& ?$ [" H' R: e% G8 E⊙  CCD 影像显示6 K' x, J4 Q# U
⊙  自定义测量过程3 y6 p& i3 n7 D' D6 l! r  W  ~1 e
⊙  打印预览模式
9 j1 |# m$ P" \+ J* C' X/ b4 z, D& }9 i& v0 w; Y. I
4.分光反射镜的工作原理" v4 n1 E- B6 D0 C) N
利用可见光非接触式测量 光源与信号通道 如右图所示,钨-卤光源发出的光通过 光学显微镜入射到样片上的薄膜上,然 后从薄膜表面和基底反射的光通过入射 光纤探针内中间的一个发射光收集光纤 又入射到分光计(spectrometer)。这 个反射光由探测器里的光栅根据波长分 解后,由 CCD 转换成电子信号,再由 A/D 转换器转换成数字信号,最后通过通讯 端口输入到电脑进行分析。
# T& M2 M' m' F3 B7 k2 p5 d干涉频谱
/ D2 s5 U! ]0 V: f–  相干光  →  表面反射  + 薄膜  / 底层反射  = 干 涉现象  →  相长  / 相消干涉(与波长有关)# V; v  Q3 w& E# V! [( `
! r& v6 T) ]( ]2 ^" C, w
光谱拟合薄膜厚度
/ N6 o  a7 h+ m) r–  在波长范围里测量频谱的正弦波型由 薄膜厚度和  N&K 值决定
& L# B3 l, e# N7 J0 T9 m: J–  由拟合计算测定频谱来优化薄膜厚度 和  N&K 值
" {( s7 N0 d! N$ c- ?: q& H( E6 [$ Q& S+ j) O7 t
5技术指标' L- i8 X0 _7 _2 E) B
类型    手动对焦
# m6 @2 S- ]# ?. M& x- b测量样本尺寸    ≤ 4"
- i# g: S- p& v# X* o# j6 {( h  L特点    快速测量  &  操作简单7 Q0 b" L3 [: o5 R# V( a- P) x
基于用户友好界面的 Windows 操作 图像打印功能  &  数据保存
0 E. [9 A' a: D0 Y/ G& s9 W平台尺寸    150 x 120mm(70 x 50mm  行程)
+ ]( C( c( H) H& \0 r2 {4 a% F; v# K测量范围    200Å~ 35 ㎛
! h1 d/ ^5 [/ v3 s光斑大小    一般 20 ㎛$ ?3 v% Y& U7 M
测量速度    1~2 sec./site( d9 w8 N: H4 m" {
应用领域    Polymers : PVA, PET, PP, PR ... Dielectrics :   
' h& R4 Z4 a4 g" N: `Semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...7 `! W( f, f& q- v
物镜    三目镜头8 m9 C/ L/ j3 \3 M- J- j% i
目镜    内倾四孔转换器 t
" |! C& I7 K* \+ E6 D% e  
- L4 k8 e8 ?. \- c) g
; O2 A: e* |: j2 ~# |: t刘先生 1 f( M; k& Z: }" P

1 x  @7 o  p) v( B8 M3 c! h   
% q4 Y3 v* S* ~% A' v7 P北京燕京电子有限公司   
9 ~7 t) d3 s7 x4 J% S, _) hBeijing Yanjing Electronics co.,ltd.   2 g2 p2 b8 M% ?9 {5 T
            $ x) E# ]0 W1 u: X4 ~4 P
地址:北京市朝阳区酒仙桥东路9号A2座西区7层   6 y$ z5 I1 L2 a: O9 v/ t! q+ J
邮编:100016   
0 F) i# R4 O" n' Y% T* \Tel: 86-10-5823-7160   
: f: G6 Q# l. IFax: 86-10-5922-2787   2 S( y! {4 Y* a3 ~0 ]( T. J, t/ V
Msn:po663340@hotmail.com  
" }; v1 f1 P1 D! z! eE-mail: liusp@beijingec.com

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发表于 2009-4-7 10:38:59 | 显示全部楼层

新加的空白文章3

这是新加的空白文章3,可以在UBB可视化编辑器中,添加和修改文章内容。
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发表于 2009-6-13 13:02:03 | 显示全部楼层

狂顶

今天顶完,明天还过来顶
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 楼主| 发表于 2009-11-2 18:32:14 | 显示全部楼层
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