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推荐KMAC ST2000-DLXn光学薄膜测厚仪

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发表于 2009-3-11 14:44:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
  KMAC 简介
* o" Z- ~4 q; {+ K! S0 J  B; _; z$ f% ]0 W# w. y5 `) Z+ k
K-MAC(株)公司附属韩国物理性质分析研究所,主要开发生产具有高科技含量的 物理化学分析仪器和应用仪器。K-MAC(株)公司在北京设有分公司,可为您提供 及时的售前、售后服务。方便您的研究、生产。. {1 V% F. W  d7 ]$ Y
  设备简介
# E8 [& t6 u: e& D) i& x1.特点8 U9 L; i2 J5 \' ?) v
l 操作简单易懂  l 非接触式、非破坏式测量方法  l 可同时测量多层膜厚度  l 原地测量  l 价 格合理
, q6 e' Z& z) \7 a) m: q2.应用领域
  A) p& I' N" S4 M半导体    Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...: r4 a& ^/ Y2 T1 S3 \/ K: c0 ^
绝缘材料    SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...
) v0 s" L' |3 @; Z聚合物    PVA, PET, PP, PR .../ L- z. ~# h! Y. ~) T$ J
" a1 P1 f- |$ A
LCD    a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide, C; ^( h, t# k' n
Film
' R3 q. l3 y( X  V5 E8 Z* r光学镀层    Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
' |& K; r' p# G# s  n- G可纪录材料    Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...! K% h7 v0 Y( u$ v7 e; H3 N
其它    Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser
$ D1 l( ~" }5 E& r$ k( _Mirrors ..." C8 `# h# I8 k% c5 T) Y
3.可用的基片  E* d+ A  Z0 ]' T% o/ Y% B* x
Silicon    SOI    Al 2 O 3    Aluminium
; B& g, T8 R  i* i& C" u' r' g/ i* @SOS    GaAs    Glass    ......
2 M- r- J! X6 }0 A5 d软件
, F0 Q- ^. i/ W8 d  i⊙  实时测量+ l: R* `' t0 x+ h) e. q8 M
⊙  再现性好(精度可达 1A 以下), u; O3 m( R9 j
⊙  厚度及光学常数(折射率、消光系 数)
5 P  g% q0 e/ S6 M; c1 _% t/ m& v⊙  一次最多 3 层薄膜测量
! s, _/ d3 |: E# ?8 A: ?& V* \⊙  测量结果制图
* L# T$ G. O2 ^5 w⊙  X-Y-Z 移动控制' L# B7 ^# m" {# D; z1 M9 C& L
⊙  CCD 影像显示
( [9 _+ l! x+ K/ g  v/ H; g⊙  自定义测量过程# Y. Z9 F7 z- i6 q. u1 _5 t
⊙  打印预览模式
: y4 K6 ^1 N% D2 @- L$ i6 k
7 Q$ g: w# n. O4.分光反射镜的工作原理; k2 c& p$ c- I8 N* Z& A. W% U6 a
利用可见光非接触式测量 光源与信号通道 如右图所示,钨-卤光源发出的光通过 光学显微镜入射到样片上的薄膜上,然 后从薄膜表面和基底反射的光通过入射 光纤探针内中间的一个发射光收集光纤 又入射到分光计(spectrometer)。这 个反射光由探测器里的光栅根据波长分 解后,由 CCD 转换成电子信号,再由 A/D 转换器转换成数字信号,最后通过通讯 端口输入到电脑进行分析。
: ?/ f0 ^6 Q1 U* E+ j. s# R( g干涉频谱
8 @. F3 P% J" O6 F–  相干光  →  表面反射  + 薄膜  / 底层反射  = 干 涉现象  →  相长  / 相消干涉(与波长有关)
& q7 ^. Z; A4 m5 i
& {( m- l. }2 x7 H光谱拟合薄膜厚度4 F) S6 ~* U  ]
–  在波长范围里测量频谱的正弦波型由 薄膜厚度和  N&K 值决定
2 u4 j/ f; C) ]7 I. r9 R–  由拟合计算测定频谱来优化薄膜厚度 和  N&K 值' D' E3 ?3 a/ d! }. w  X

. X6 _2 z+ k* m" K: C) S5技术指标
* r. ^0 _) x4 k) I& j类型    手动对焦
, s3 Q$ j8 h6 r2 i9 g测量样本尺寸    ≤ 4"! e$ f' `  D: B1 D; C  `
特点    快速测量  &  操作简单3 ~0 z' X8 d, e2 X, b
基于用户友好界面的 Windows 操作 图像打印功能  &  数据保存
. N6 b& f6 K: q8 Q( d平台尺寸    150 x 120mm(70 x 50mm  行程)3 \  E9 w! L% O
测量范围    200Å~ 35 ㎛
' Y: N; g2 G, s" y8 C光斑大小    一般 20 ㎛' @3 H2 i6 p( ^' n2 `( t; v* g8 T4 l
测量速度    1~2 sec./site2 w% w6 N, _, I" S0 c0 Y7 o
应用领域    Polymers : PVA, PET, PP, PR ... Dielectrics :   
; C, s9 j/ v& q2 d- QSemiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...* W# n& a) D9 [" a  D7 z/ ^
物镜    三目镜头
/ j8 A6 o0 s$ u/ ^* M  R, t5 {0 d6 {目镜    内倾四孔转换器 t4 q# `# T( h* o% \+ e) c6 L- l
  
: K2 ?) d7 x  V* Z+ f
8 c0 y  i/ e$ B, R8 T5 i刘先生
2 b( l1 Q8 |, |: Y2 X % r' j) o& t. X
   
- ^; a  p2 u% n, s北京燕京电子有限公司   
+ v6 E. {+ @# o9 _% |Beijing Yanjing Electronics co.,ltd.   
* w% S; S) `; p; c- ~/ b( G! Y            
8 n# r8 Q$ x; E9 `( v! \- X# u5 u地址:北京市朝阳区酒仙桥东路9号A2座西区7层   
7 M/ r3 H# d* c$ J! e8 ?邮编:100016   
" {" L, [8 j4 o+ {. VTel: 86-10-5823-7160   
  f/ C" [4 N% F0 S5 oFax: 86-10-5922-2787   
- s8 i' L, T! W2 J. E8 V2 sMsn:po663340@hotmail.com  
9 w0 q; y( B/ Q, K; |  x9 ~' oE-mail: liusp@beijingec.com

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发表于 2009-4-7 10:38:59 | 显示全部楼层

新加的空白文章3

这是新加的空白文章3,可以在UBB可视化编辑器中,添加和修改文章内容。
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发表于 2009-6-13 13:02:03 | 显示全部楼层

狂顶

今天顶完,明天还过来顶
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 楼主| 发表于 2009-11-2 18:32:14 | 显示全部楼层
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