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引用第12楼fanyushan于2009-07-08 12:12发表的 : ; `& p6 C5 Z _. \+ o$ M! u/ Y如果是直流磁控溅射,我告诉你很难做,两种靶材都容易中毒。特别是AL。真空要足够高,通入气体要足够少,也就是把磁控控制在金属溅射模式下,才可以做。如果你无法确认什么参数状态下可以,可以用手动操作,通入氩气,进入正常辉光放电,然后通入氧气,流量从小到大,看到磁控电压突然下降,就说明靶已经中毒,你要保持在中毒前的参数状态才可以做工艺。
引用第14楼valle于2009-07-14 07:31发表的 :4 l. O% {8 f! W c* J8 {& E! ~% a 8 V9 C( f- I& o, E, C 4 _4 e6 v; r6 m! E) m) A, y' S " I# ~. P: y) v6 Y有道理
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