APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺

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APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
闫凯 司阿利中国空空导弹研究院,河南洛阳471009摘　要:阐述了APS等离子体离子辅助沉积（PIAD）在光学镀膜中的应用，通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程，讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响，给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。[著者文摘]
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  m% J8 _% A5 j2 {  o" @关键词:离子镀膜 薄膜工艺 等离子源辅助沉积 工艺参数
分类号:　TN205 TJ760.5[著者标引]文献标识码：A文章编号：1673-5048（2008）02-0035-04栏目信息：红外与激光技术
/ ^5 J# |$ @3 C- A) q, \3 C相关文献:主题相关 全文快照　　　

" [: S) F( Y8 x0 X) D, u" UAPS Plasma Ion Assisted Deposition Process for Optical CoatingYAN Kai, SI A-li China Airborne Missile Academy, Luoyang 471009, ChinaAbstract:The application of APS plasma ion assisted deposition （PIAD） in optical coating are described. According to the analysis of energy transfer during the APS plasma ion assisted deposition process, the effect of various coating process conditions on coating feather of plasma ion assisted deposition are discussed. Some precepts for choosing the coating parameters of APS plasma ion assited deposition process are proposed.[著者文摘]
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Key words:ion film plating; thin film technology; plasma ion assisted deposition（PIAD） ; technological parameter

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gandongdi

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xiaofei

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