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种光学薄膜生产的新工艺—等离子体辅助蒸镀
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, F( D5 ~. {1 N2 ?$ U朱耀南 涂建军 摘 要:离子辅助蒸镀可以改善薄膜的性能已为大家所熟知,并适用于多种镀膜材料的多层薄膜,但是由于这种工艺的总离子流较低以及商品离子流的束斑面积较小,故其幅照的基片范围是极其有限的,采用先进的等离子体源(APS),就克服了上述缺陷,其总的离子流可达到5A,均匀辐照基片的范围达到的1m^2,这种等离子体源通常安装在箱式镀膜机上,APS除了用于等离子体辅助蒸镀外,还可用于化学气相淀积工艺,例如等离子体聚合。本文对用APS进行等离子体辅助蒸镀工艺的原理作了叙述,同时介绍了用这种工艺镀制介质多层膜,如截止滤光片和减反射膜,其波长不发生漂移,对有机基底材料为尤其明显,加固层、减反射膜和憎水层可以三者一起加到了有机基底表面,改善了这种基底性能,而且已进行了规模生产。* s, m! c' u$ g7 G( r
' x o7 r& P3 ^5 C6 j/ Y关键词:光学薄膜 等离子体辅助蒸镀 生产工艺 % \* s2 j, @4 ~9 W/ F3 v' R# F
8 g( H: H& p* | \# w& v1 F6 p分类号:TH74[工业技术 > 机械、仪表工业 > 仪器、仪表 > 光学仪器] O484[数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学]文献标识码:文章编号:相关文献:主题相关 参考文献 引用本文 |
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