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[转贴] 硕士论文下载：光學薄膜厚度均勻性之研究（指導教授：李正中） |
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[/free]論文名稱(中) 光學薄膜厚度均勻性之研究
論文名稱(英) none 檔案 87226028.pdf 本電子全文僅授權使用者為學術研究之目的，進行個人非營利性質之檢索、閱讀、列印。 請遵守中華民國著作權法之相關規定，切勿任意重製、散佈、改作、轉貼、播送，以免觸法。 論文使用權限 同意立即開放 論文語文/頁數 中文/52 統計 本論文已被瀏覽 699 次，被下載 1078 次 摘要(中) 在大面積光學鍍膜中，厚度均勻性將變得相當重要，要維持監控點外位置之光學特性不會改變，在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分布，將是本論文討論的重點。 要如何控制膜厚均勻分布，就必須先對基板相對蒸發源的幾何位置擺設所造成的影響有所了解，進而探討蒸發源特性及成膜過程之物理特性。以作為設計改善膜厚均勻性時之參考，而達成改善厚度分布均勻性之目標。 然而，在整個研究過程中，對整個鍍膜系統之架構設計，對厚度分布均勻性及薄膜品質，造成何種程度的影響有所了解。同時，亦建立了研究時應有的基本態度與方法，以作為往後解決問題能力之基礎。 摘要(英) none 關鍵字(中) 薄膜 均勻性 關鍵字(英) none 論文目次 第一章 緒論 …………………………………………………..…….1 第二章 理論分析 ……………………………………………..…….3 2.1 膜厚分布理論分析 ……………………………………..…..3 2.1.1 點源之討論 ……………………………………….…3 2.1.2 面源之討論 ………………………………………….4 2.2 各型旋轉基板支撐架之模擬膜厚分布公式推導 …………6 2.2.1 傾斜型旋轉平面基板支撐架 ……………………….6 2.2.2 傾斜型旋轉行星式基板支撐架 …………………….9 2.3 成膜過程的理論分析 ………………………………………12 2.3.1 離子束濺射靶材之碰撞理論 ……………………….12 2.3.2 薄膜沈積過程之假設 ……………………………….15 第三章 儀器及量測工具 ……………………………………………17 3.1 濺鍍系統 …………………………………………………….17 3.2 原子力顯微鏡 ……………………………………………….17 3.3 光譜儀之量測 ……………………………………………….20 第四章 實驗結果與分析討論 ………………………………………21 4.1 膜厚分布之探討 …………………………………………….21 4.1.1 蒸發源的發射特性 …………………………………..21 4.1.2 平面旋轉基板之單層膜實驗模擬比較 ……………..25 4.1.2.1 虛高因子 …………………………………...27 4.1.2.2 殘餘氣體分子之影響 ……………………...28 4.1.3 多層膜之實驗模擬膜厚分布 ………………………..30 4.2 薄膜分布之光學特性探討 …………………………………33 4.3 改善膜厚均勻性之分析 ……………………………………37 4.3.1 基板之架構設計 …………………………………….37 4.3.2 遮板之設計 ………………………………………….40 第五章 結論 …………………………………………………………42 參考資料 ……………………………………………………………..43 參考文獻 1.H. A. Macleod, “Thin-Film Optical Filters”,Macmillan Publishing, pp.412-420 (1986). 2.李正中, ”薄膜光學與鍍膜技術“, 藝軒圖書出版社,pp.325-337 (1999). 3.Suk Tai Kang, Ryuichi Shimizu and Tsuyoshi Okutani, “Sputtering ofSi with KeV Ar Ions. 1. Measurement and Monte Carlo Calculations of Sputtering Yield”, J.J.Appl.phys., Vol.18,No.9, pp.1717-1725(1979). 4.Peter Sigmund, “Theory of Sputtering Yield of Amorphous and Poly-crystalline Targets”, Phys. Rev., V 184, PP.383-416(1969). 5.P. J.Martin,“Review Ion-based methods for optical thin film deposition “, Journal of Materials Science, 21, pp.1-25 (1986). 6.E. Franke, H. Neumann, M. Zeuner, W. Frank , F.Bigl, “Particle energy and angle distributions in ion beam sputtering”, Surface and Coatings Technology 97,pp.90-96(1997). 7.Michio Mizutani, Kimihiro Sasaki, and Tomonobu Hata, “Investigation of Ion Beam Sputtering Process by Monte Carlo Simulation”, Electronics and Communications in Japan , Part2, Vol 81, No.12, pp.41-47 (1998). 8.H. Demiryont, James R. Sites, and Kent Geib, “Effects of oxygen content on the optical properties of tantalum oxide films deposited by ion-beam sputtering”, Appl. Optics, Vol. 24, No. 4, pp.490-495 (1985). 9.Russell J.Hill, “Physical Vapor Deposition”, pp.2 , 81-84 (1986). 10.W. Eckstein, J.P. Biersack, “Reflection of Heavy Ions”, Z. Phys. B - Condensed Matter 63, pp.471-478 (1986). 11.唐晉發, 顧培夫, “薄膜光學與技術“,機械工業出版社, pp.171-172 (1987). 12.C. Grezes-Besset, R. Richier, and Emile Pelletier, “Layer uniformity Obtained by vacuum evaporation: application to Fabry-Perot filters”, Appl. Phys. Vol. 28, No. 14, pp.2960-2964 (1989). 指導教授 李正中 (Cheng-Chung Lee) [free]
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