磁控溅射Tio2

老万

    反映溅射，金属钛靶，沉积速率低，氩气和氧气比例多少合适呢？4:1  合适么？温度是两百。。。。？
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9 v, o, J) {; \3 h  溅射两个小时，时间上是不是太短呢？做了20几次靶材几乎没有消耗，怎么回事
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  出现一次怪现象：卸下钛靶时候，发现上面有棕黄色的薄膜（局部）， 硅片上的薄膜拉曼看不出任何东西来，   ？ 到底是哪里出了问题呢

请各位大师出手相助吧
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opokimm

路过，关注。
抢个位置。
+ y6 l' [6 m& N8 d顺便顶下
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sunboymlh

这是把中毒现象，由于溅射反应在靶的表面同时进行会有大量的Tio2附着于表面，使粒子轰击效应减弱溅射效率下降；如果你是直流溅射会造成正电子淤积从而产生库伦斥力同样减小溅射速率。
& _% J! q5 G" M1 h+ r试验前处理一下靶表面就可以了
0 K0 P8 _1 u# U" V+ }: F' p; n黄的可能是纳米Tio2吧

w_x_l_999

TIO2金属粑做反应溅射都存在中毒的现象，建议换成TIO2的陶瓷把，估计就好很多了

yupo54

把溅射功率提高一些，薄膜没有沉积上说明没有TiO2溅射下来

fanyushan

典型靶中毒，建议换磁控电源，换成中频或射频电源，要不然的话，这样做下去没戏，而且即使目前你能够做出来一次结果，但是生产成本会很高。