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获得均匀厚度膜层的途径
9 e+ ?$ @. g; V1 c5 N, v5 z(1)n1以获得均匀膜层厚度的蒸发源与零件位置! \' m# O2 S6 c
1)点状蒸发源置于被镀件所在球面的球心；
, L' m+ E2 J/ y& Y2)面状蒸发源位于被镀件所在的同一球面上。8 C6 B2 D [6 @
(2)改善膜层厚度均匀性的措施。由于影响膜层厚度的因素很多，而且还有很多随机因日难于控制，所以，要得到膜厚均匀性很好的薄膜是相当困难的。实践中，百先要选择好适宜所零件面形的工装．其次要进行试镀，根据测试结果，调整影响膜厚均匀性的参数，采取调整脂月均匀性的必要措施，经过多次试镀、调整和修正得到符合要求的膜厚均匀性。* d, c) r8 Z: @# Z5 Z: n$ {
1)采用旋转夹具：公转、自转、行星央具。蒸发源的大小和形状是有限的，既不可能很大也不可能是理想的点源或面源，蒸发的膜料分子呈辐射形飞向被镀基底，使得基底各处获得蒸发分子概率不同，入射角也有所差异。如何获得均匀的膜层分布以及较好的附着力，关键(
9 l+ N5 k8 O+ B6 Q9 z于蒸发膜料分子的入射角耍尽量地小，亦即真空室中的蒸发源与基底的相对位置要合理布置如果被镀零件是安置在固定支架上，蒸发源应安置于底板中心，被镀零件离蒸发源的距离越越好。蒸发源有效蒸发张角应小于22。，才能获得均匀度较好的膜层。 P: P. h8 B) l) X
对于大的基底或者曲率较小的透镜，蒸发源可安置在边缘，但必须采用旋转的平面或球日夹具。蒸发源到中心的距离与到基底的高度比约为只lA＝I；L 9。2 t- N3 Z7 s( T( x4 p- r
对于镀制曲率半径更小或抛物面形的零件，不仅要求支架转动，而且零件本身也应自转因此采用自转和公转的行星式转动支架。显然行星式夹具之绕f轨迹要比平面夹具绕行轨迹复杂得多，它造成夹具内外位置膜厚较均匀，可以得到大面积均6膜厚分布。行星式夹具之膜厚均性要比平面夹具来得好。另外，对于行星式夹具其公转转速和自转转速比值应避免为整数倍惟有在非整数倍的情况下其绕行轨迹才会遍及内外因达到厚度平均效果。
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" R ~% s! K9 { 2)增设膜层厚度调节板。设置膜层厚度调节板是长期以来一直采用的调整膜厚均匀性行之有效的方法。但是大多数都是通过在实验中反复调整修改得到的。即便是已经采用了行夹具，要想获得很均匀的膜层厚度，也需要设置膜层厚度调节板。 |
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发表于 2008-10-24 11:27:49
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发表于 2008-12-7 04:29:35
