电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究

gds

电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究
/ E/ u& N: @2 ^2 u3 c



7 p  _. g2 P0 q! L8 \/ F【英文篇名】 Research on the Ta_2O_5 Optical Thin Films Deposited by Electron Beam Evaporation with Ion Assisted
【作者中文名】 张光勇; 薛亦渝; 郭培涛; 王汉华; 马中杰;
【作者英文名】 ZHANG Guang-yong; XUE Yi-yu; GUO Pei-tao; WANG Han-hua; MA Zhong-jie（School of Materials of Science and Engineering; Wuhan University of Technology; Wuhan 430070; China）;
1 O1 v4 A8 B  J& w' \【作者单位】 武汉理工大学材料科学与工程学院; 武汉理工大学材料科学与工程学院 湖北武汉; 湖北武汉;
【文献出处】 压电与声光, Piezoelectrics & Acoustooptics, 编辑部邮箱 2008年 01期  
/ `" A+ C+ U0 E. j期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
5 [; z4 P* ^8 _+ t$ @【关键词】 Ta2O5; 电子束蒸发; 透射率;
【英文关键词】 Ta2O5; electron beam evaporation; transmittance;
: L/ b2 q3 K* G- D4 j5 i【摘要】 通过正交实验,以Ta2O5为初始膜料,采用离子源辅助电子束蒸发技术制备了Ta2O5光学薄膜。透射光谱显示,所制备的Ta2O5光学薄膜具有较高的透射率,极值点透射率约为93%,接近K9玻璃基片的透射率。极差分析表明,基片温度和离子源氧气流量是影响薄膜透射率的两个主要因素,而沉积速率的影响很小。分析了各制备参数对Ta2O5薄膜光学性能的影响,得到了采用离子源辅助电子束蒸发制备Ta2O5光学薄膜的最佳工艺参数。
! U6 m) u) U4 q0 y6 \( h【英文摘要】 The Ta2O5 optical thin films were deposited on K9 glasses with the Ta2O5 as coating materials by electron beam evaporation with ion beam assisted through orthogonal experiment.The transmittances of the as-deposited Ta2O5 thin films were excellent while the maximum transmittance was about 93%,close to the transmittance of K9 glasses.The substrate temperature and oxygen flux were the two key factors which influence the optical properties of the Ta2O5 thin films while the effect of deposition rate could be ign...

镀膜英雄

光学薄膜沉积

yuancy

3Q

xj2008cg

好资料，谢谢楼主了

dede

光学薄膜沉积