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供应CHROMIUM ETCHANT 1020、CHROMIUM ETCHANT 1020AC、CHROMIUM MASK ETCHANT、CHROMIUM CERMET ETCHANT TFE 等四种铬蚀刻液以及Indium Tin Oxide Etchant TE-100 锡蚀刻液。其中
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CHROMIUM ETCHANT 1020
* L$ n3 ?7 `5 U/ C. t6 D: k* v(铬蚀刻液1020)纯度高、蚀刻速度快(40埃/秒),蚀刻精度高,蚀刻液与正负胶相容性好,使用后用去离子水清洗即可/ }- _' d2 u' B6 R; Q
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CHROMIUM ETCHANT 1020AC4 u) j4 b' l- e( Z$ Z" P$ _- s
(铬蚀刻液1020AC)不含硝酸、蚀刻速度慢从而消除蚀刻过程中的钻蚀(截槽),蚀刻液与正负胶相容性好,使用后用去离子水清洗即可
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CHROMIUM MASK ETCHANT! w5 t3 K6 S- m% E8 j$ V
(铬掩膜蚀刻液)高精度的光掩护蚀刻液,无毒害,可视化的蚀刻控制,能精确到亚微米尺度,蚀刻液与正负胶相容性好。8 e" x9 z- l7 O1 @
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CHROMIUM CERMET ETCHANT TFE
, L9 t' B: l' _ Z(铬金属陶瓷蚀刻液)专门用于蚀刻沉积在铜、镍或金属上的含铬金属陶瓷,本蚀刻液只与负胶有良好的相容性。) r" e* t/ ]) g# U% ?
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Indium Tin Oxide Etchant TE-100 锡蚀刻液能有效蚀刻涂覆在陶瓷、绝缘体、半导体、以及多种金属上的氧化锡以及氧化锡铟涂层,本蚀刻液与正负胶有很好的相容性。
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联系方式:021-61021226(范先生) L% J7 l8 P' [% Q `- g
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