请教各位前辈几个有关铁电薄膜方面的问题，谢谢先~

gryphon

1、铁电薄膜是不是就是光学薄膜的一种？
+ ~0 [$ M9 b6 S# F   现代光学薄膜的制备是不是几乎都采用真空镀膜方法？
/ W' b. M. n4 B$ w6 x2 Q   真空镀膜方法主要分：
6 o  f1 ?' O! h8 C+ l% H   1) 物理气相沉积（PVD）：
$ B# ]* G: G3 R# C0 F/ |3 x( \     蒸发镀：热蒸发、电子束蒸发、溅射蒸发。 。 。
+ T. ?# s0 h4 U6 e1 s) Z8 C; |7 m     溅射镀：磁控溅射、反应溅射 、中频溅射和脉冲溅射。 。。
     离子镀：多弧离子镀、空心阴极电弧离子镀、阴极放电离子镀。 。 。
   2) 化学气相沉积（CVD）：
9 f6 M2 N6 k# V" T3 o     高温和低温CVD、低压CVD、激光辅助CVD 。。 。

' E% Y, `! `3 R. S 以上说法对不对？
' u: ^. E6 V9 T. a4 h* A* f1 Y
* r; Q# x: v  ~ 2、 敬请将铁电氧化物、磁性合金，以及铁电氧化物与磁性合金的复合膜等简单介绍一下
   
0 @8 _4 H$ ~; K0 U. K+ m. R8 P烦请各位好心的前辈赐教一二，非常感谢！！