请教各位前辈几个有关铁电薄膜方面的问题，谢谢先~

gryphon

1、铁电薄膜是不是就是光学薄膜的一种？
9 U  Z8 `9 V5 A% y; y/ r   现代光学薄膜的制备是不是几乎都采用真空镀膜方法？
! p' k- s% _# Z9 g   真空镀膜方法主要分：
' c, u/ _. l8 O7 S* R   1) 物理气相沉积（PVD）：
# f* n* W* \6 p$ R     蒸发镀：热蒸发、电子束蒸发、溅射蒸发。 。 。
4 H* B2 v  a0 B& `0 {7 z+ W: K; j     溅射镀：磁控溅射、反应溅射 、中频溅射和脉冲溅射。 。。
3 p5 T7 Z; y3 j6 Z4 \3 ?     离子镀：多弧离子镀、空心阴极电弧离子镀、阴极放电离子镀。 。 。
   2) 化学气相沉积（CVD）：
     高温和低温CVD、低压CVD、激光辅助CVD 。。 。

以上说法对不对？

% ?# q5 R  b( Z, x8 Y3 b# s3 ^ 2、 敬请将铁电氧化物、磁性合金，以及铁电氧化物与磁性合金的复合膜等简单介绍一下
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烦请各位好心的前辈赐教一二，非常感谢！！