近来发现好多人问减反射薄膜膜系优化设计问题,特上传此论文供大家学习.下了要记的顶一下 : }! [+ j# j' X- t' S5 _
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: [0 S/ h) h& U5 }7 A% K) {减反射薄膜膜系优化设计及工艺研究$ Z' X+ T( s" [8 _
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本论 文 系 统地研究了减反射薄膜的设计、优化与镀制工艺。采用单纯形优化方法编
( O0 ~& x! ^- s2 m- w$ ?+ |制程序，完成了以K9玻璃为基底的减反射薄膜的膜系设计，并对SiO2. Ta20，单层膜的. u6 O" h" y$ D$ ?; \
制备工艺进行了大量的研究，获得在可见光波段具有高透过率的SiO2/Pa205多层减反射
# E5 A/ P( T w) I- I9 b薄膜样品。8 d& ?+ l8 N: k0 W E/ ^; W
论 文首 先 分析了减反射薄膜的应用、发展现状及展望。2 y, i/ d& s* F& P% ]4 M0 A0 C" @
在多 层 减 反射薄膜的设计中，作者从光学薄膜理论出发，利用MATLAB计算机语言，
" Y' L) L* p$ C1 ~得出多层减反射膜系的设计结果及光谱特性曲线。为得到更好的减反射效果，作者又根5 D4 j8 o5 @5 }9 ]& B" v
据单纯形法的原理对设计膜系进行了优化，得到一个更高透过率的多层减反射膜系，理
* e) o% n" E4 w论透过率在可见光波长范围内可以达到99%以上，并根据优化的理论膜系进行了样品膜
! l7 [/ z, K1 @5 X系的制备，样品实际透过率达到%%-97%以上，起到了光学增透的作用。
g- L! H. Q+ Z: g4 m X根据 多 层 膜的优化结果，选用折射率为1.52的K9玻璃为基底，并采用射频反应磁控
% X# w( B( s* N4 U溅射方法制备了SiO/Ta20，多层膜，分别研究了沉积工艺参数对单层SiO2和Ta205薄膜光
7 k2 e" p8 m* l学性能的影响，为多层膜沉积奠定了基础。, e! w& U- m3 ~% [6 `
在工 艺 研 究时，分别分析了氧气含量、基片温度、工作真空度等工艺参数对薄膜的
. q c" u$ m( l% y2 [' \光学性能及结构的影响，确定了单层薄膜的沉积速率。分析结果表明氧气含里对薄膜的. w. G7 e& b% A% _+ x1 {
折射率影响很大，Ar/OZ混合反应溅射在氧含量大于13%之后可制备出折射率符合设计! k# v Y/ W& _" _0 j' o& W% @
要求的Si02薄膜，而Ta205薄膜的氧含量需要达到80%以上。基片温度、真空度都是薄
( A! [/ X3 i+ ~膜光学性能的重要影响因素。' S% D {* X/ I* C% H2 F' ~
最后 ， 利 用椭圆偏振仪测量了单层Si02和Ta2O5薄膜的折射率和厚度，用分光光度
4 q& Q, ^$ b: U; x, F计测量了薄膜的透过率光谱曲线，薄膜的微观形貌和结构由原子力显微镜以及X射线衍+ b& X) ^7 ~8 q! o
射仪进行了分析。检测结果进一步验证了各工艺参数对减反射薄膜光学性能的影响。6 |$ k% r: k" C8 m
关键词:减反射薄膜;优化设计;单纯形法;工艺研究 |
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发表于 2008-4-18 11:25:28
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