近来发现好多人问减反射薄膜膜系优化设计问题,特上传此论文供大家学习.下了要记的顶一下
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% c, F: ^& A* W J% M. X减反射薄膜膜系优化设计及工艺研究. N1 {. Y5 k7 C2 v, o. S; G! G/ L$ o9 A
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本论 文 系 统地研究了减反射薄膜的设计、优化与镀制工艺。采用单纯形优化方法编
: C& V9 W8 ~, V; y! C; X制程序，完成了以K9玻璃为基底的减反射薄膜的膜系设计，并对SiO2. Ta20，单层膜的
" i4 }! S+ S* M0 a$ `+ J制备工艺进行了大量的研究，获得在可见光波段具有高透过率的SiO2/Pa205多层减反射
+ r8 m5 s6 q, M. F薄膜样品。
/ @: Z3 u+ y' d% ]' }论 文首 先 分析了减反射薄膜的应用、发展现状及展望。# n( w4 j9 c& Z: m r
在多 层 减 反射薄膜的设计中，作者从光学薄膜理论出发，利用MATLAB计算机语言，
7 F5 {7 k: ~+ p% Y得出多层减反射膜系的设计结果及光谱特性曲线。为得到更好的减反射效果，作者又根1 g; V. U: I: K' e3 z' L j/ i, C
据单纯形法的原理对设计膜系进行了优化，得到一个更高透过率的多层减反射膜系，理4 a1 Y& B5 [! \
论透过率在可见光波长范围内可以达到99%以上，并根据优化的理论膜系进行了样品膜& E+ A: {3 X: O2 S, N# m# i
系的制备，样品实际透过率达到%%-97%以上，起到了光学增透的作用。
. f5 t& Z2 g# S+ V! S% j根据 多 层 膜的优化结果，选用折射率为1.52的K9玻璃为基底，并采用射频反应磁控' B! V G9 T& s n9 {' M
溅射方法制备了SiO/Ta20，多层膜，分别研究了沉积工艺参数对单层SiO2和Ta205薄膜光3 j8 W. ~/ j* R6 O& o
学性能的影响，为多层膜沉积奠定了基础。
: ]2 Y* }, [. J1 _, G3 t在工 艺 研 究时，分别分析了氧气含量、基片温度、工作真空度等工艺参数对薄膜的
' p: y5 W2 g- }$ I4 f' z4 \) q光学性能及结构的影响，确定了单层薄膜的沉积速率。分析结果表明氧气含里对薄膜的5 v5 `+ `6 G, i+ Z& B6 y
折射率影响很大，Ar/OZ混合反应溅射在氧含量大于13%之后可制备出折射率符合设计9 D8 H" m# D6 \% S/ D& o3 n
要求的Si02薄膜，而Ta205薄膜的氧含量需要达到80%以上。基片温度、真空度都是薄
: F# t7 R" b8 A" F6 s2 l膜光学性能的重要影响因素。
4 l( S7 `: c& y% y9 [3 f3 Y( P' o最后 ， 利 用椭圆偏振仪测量了单层Si02和Ta2O5薄膜的折射率和厚度，用分光光度
* b7 {0 Z x$ n7 W7 H% S计测量了薄膜的透过率光谱曲线，薄膜的微观形貌和结构由原子力显微镜以及X射线衍
1 D& V5 I D( t) @+ Y射仪进行了分析。检测结果进一步验证了各工艺参数对减反射薄膜光学性能的影响。* p# V4 X: ~& g9 L O- N. m
关键词:减反射薄膜;优化设计;单纯形法;工艺研究 |
发表于 2008-4-18 03:25:28
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