近来发现好多人问减反射薄膜膜系优化设计问题,特上传此论文供大家学习.下了要记的顶一下
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. q3 }( v+ Y+ |9 x减反射薄膜膜系优化设计及工艺研究, a' h* ~, N6 q9 V' \
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本论 文 系 统地研究了减反射薄膜的设计、优化与镀制工艺。采用单纯形优化方法编9 S% ^7 E5 r# C
制程序，完成了以K9玻璃为基底的减反射薄膜的膜系设计，并对SiO2. Ta20，单层膜的
3 E" U M+ f3 f( B9 x* `制备工艺进行了大量的研究，获得在可见光波段具有高透过率的SiO2/Pa205多层减反射0 [. \- ^3 o: p
薄膜样品。/ j. { p1 ~9 s2 b* F2 v
论 文首 先 分析了减反射薄膜的应用、发展现状及展望。
7 b. C* C! _; A! e) W& U# O/ g6 A在多 层 减 反射薄膜的设计中，作者从光学薄膜理论出发，利用MATLAB计算机语言，
, N7 s: K4 X* w* R. D, A得出多层减反射膜系的设计结果及光谱特性曲线。为得到更好的减反射效果，作者又根
. N. Q, Q: u! v1 `# T4 M据单纯形法的原理对设计膜系进行了优化，得到一个更高透过率的多层减反射膜系，理' m& D) _) M' [
论透过率在可见光波长范围内可以达到99%以上，并根据优化的理论膜系进行了样品膜
9 G& a2 ], W# z: ?. h# e7 u系的制备，样品实际透过率达到%%-97%以上，起到了光学增透的作用。' z; x q+ B/ C: l% [9 l0 p* u. [
根据 多 层 膜的优化结果，选用折射率为1.52的K9玻璃为基底，并采用射频反应磁控
! E+ i% G; S8 q/ U6 p1 }. {溅射方法制备了SiO/Ta20，多层膜，分别研究了沉积工艺参数对单层SiO2和Ta205薄膜光
$ t' c6 ^% _ W! n X0 B+ K学性能的影响，为多层膜沉积奠定了基础。" X# x$ W- S& G
在工 艺 研 究时，分别分析了氧气含量、基片温度、工作真空度等工艺参数对薄膜的
% K, G9 W( Q& ?7 \光学性能及结构的影响，确定了单层薄膜的沉积速率。分析结果表明氧气含里对薄膜的* v2 V$ {/ _9 K% j6 _ J
折射率影响很大，Ar/OZ混合反应溅射在氧含量大于13%之后可制备出折射率符合设计
: I8 y5 t" |, A& O, t& t0 {7 g- i要求的Si02薄膜，而Ta205薄膜的氧含量需要达到80%以上。基片温度、真空度都是薄$ z9 I1 }8 G: W k' Q c
膜光学性能的重要影响因素。' B7 [; y5 a$ U/ v
最后 ， 利 用椭圆偏振仪测量了单层Si02和Ta2O5薄膜的折射率和厚度，用分光光度9 w0 o- E: F4 `
计测量了薄膜的透过率光谱曲线，薄膜的微观形貌和结构由原子力显微镜以及X射线衍( ]2 r4 `6 j8 n, Q& c
射仪进行了分析。检测结果进一步验证了各工艺参数对减反射薄膜光学性能的影响。
; w8 E' u; Q3 b I8 z& u" T+ o关键词:减反射薄膜;优化设计;单纯形法;工艺研究 |
发表于 2008-4-18 03:25:28
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