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小口径激光腔镜高阈值高反射膜系5 @, u+ K% n) L. o3 a1 [% _3 f3 O
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5 ]8 T8 }$ a1 x q <正>极高反射率的光学薄膜的主要镀制方:一种是等离子溅射技术;另一种是传统的电子束镀制法。相比等离子溅射技术,电子束镀制法在相同条件下达到相同反射率所需层数多,所镀制薄膜散射损耗相对要大,但是设备相对便宜。测试均使用精度为0.1%的Lambda分光光度计。在(?)50mm×5mm的单晶硅基底上,对入射波长1.315μm,入射角为0°,镀制高反射率薄膜。在LEYBOLDAPS 1504上,以Ta2O5为高折射率材料,蒸发速率0.3nm/s,充氧量25sccm/min, 基本真空度0.9mPa。使用等离子体辅助沉积技术,离子流的偏压为120V,发射电流为40A。以SiO2为低折射材料,蒸发速率0.60nm/s,充氧量8sccm/min,开始镀膜真空40mPa,基本真 |
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