薄膜残余应力对MEMS微型光栅性能的影响( J+ C5 z/ r. b
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【英文篇名】 Effects of Residual Stresses in Thin Films on Performances of MEMS-Based Microgratings " q0 N5 }# c2 k; a
【作者中文名】 虞益挺; 苑伟政; 梁庆; 乔大勇;
, V4 [! Z, {! L$ p0 ~【作者英文名】 YU Yi-ting; YUAN Wei-zheng; LIANG Qing; QIAO Da-yong(Micro and Nano Electromechanical Systems Laboratory; Northwestern Polytechnical University; Xi' an 710072; China); 0 y. n2 f; r0 E% f& p
【作者单位】 西北工业大学微纳米系统实验室; 西北工业大学微纳米系统实验室 西安; 3 M" ^2 J% Q7 X+ y7 j" Y. M
【文献出处】 纳米技术与精密工程, Nanotechnology and Precision Engineering, 编辑部邮箱 2007年 02期 * B: r1 c; P2 N. \+ N. V0 _' Z
期刊荣誉:ASPT来源刊 CJFD收录刊
& u6 u5 ]( g- E6 e( S: i1 D【关键词】 薄膜; 残余应力; 微型光栅; 有限元仿真;
( H& a* G H0 E7 A' h【英文关键词】 thin films; residual stress; microgratings; finite element simulation;
) r2 e% j; z7 P! E3 j【摘要】 微型光栅结构薄膜中由于残余应力的存在引起器件在光学和机械性能方面发生显著变化.有限元仿真和分析结果表明,膜内的残余拉应力越大,越利于提高和改善器件工作过程中的光学效率.然而,残余拉应力的增加将显著增大结构工作时的驱动电压,使驱动电路的设计与制作更加复杂;同时,还将导致结构的最大工作位移明显减小,极大限制了光栅的应用领域.另外,残余拉应力的增加也会使结构的共振频率变大,从而影响器件的工作带宽.因此,为了使光栅的使用和工作性能满足设计指标要求,在设计当中就要充分并折中考虑残余应力对各个性能参数的影响,并且在随后的加工和制作过程中对其进行严格控制. " i. k9 N% Z7 m" f+ U+ [
【英文摘要】 Effects of residual stresses on the optical and mechanical performances of MEMS-based microgratings were investigated using finite element simulation method. The results show that larger the tensile residual stress, more advantageous to improve the working optical efficiency of microgratings. However, as the tensile residual stress increases, driving voltage required for operating the grating structures is greatly enhanced, which makes the design and making of driving circuitry more complicated. Meanwhile, ... ; {. i( G# Q D, B" K+ i2 E" z* e' s0 M
【基金】 教育部高等学校科技创新工程资助项目(706055);; 教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-05-0869);; 西安应用材料创新基金资助项目(XA-AM-200610);; 西北工业大学博士论文创新基金资助项目(CX200611) |