电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响
2 W" j6 Z2 l1 o( h( x王英剑 李庆国 范正修中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800摘 要:运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段.如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响.以判断合理的沉积工艺。& Y, I! C/ ^; ]0 \6 Z( S
5 Z% ^, z; c( ^+ w! Z/ b关键词:电子束 离子辅助 离子束溅射 薄膜特性
; e: \ U# q+ L! {) C分类号: O484.4文献标识码:文章编号:栏目信息:; t1 ]1 N9 J2 T8 z) p q
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