|
发送磁控靶资料并欢迎讨论磁控靶及磁控方法。有请联系:nanovac@gmail.com% a5 ~3 o1 I k9 W1 k: m
7 V0 V. P7 E# q; h
相对蒸发镀膜与电子枪镀膜,磁控溅射镀膜在国内发展还不是太快。磁控溅射镀膜有膜层致密,与基体结合强度高,适合镀膜范围广,工艺调节也很方便。比如如果靶间距等尺寸参数一定,可以根据镀制时间和所耗功率决定膜层厚度,从而省却了测膜厚的晶片及控制仪。
+ }. y z- j) E# W- _1 A7 U2 G- D, l( f3 e5 O. [
另一个特点是其材料动能较大,又是中性,很多场合不用离子源也可以使用。
4 d$ C/ Q. H& q8 r
1 J. W$ e3 v* E功率几乎可以任意放大也是一个很大优点。
/ t1 u+ F8 r/ m( \# e5 k# `2 W4 {5 w1 W$ H
当凡事有利即有弊,其沉积速度远低于电子枪与蒸发镀膜,靶材利用率也不如电子枪的材料利用率。
, e3 R& g! d) y q4 K/ N5 E/ A8 c/ y8 a3 m- {! e! y
适用范围各有千秋:3 g, X+ }! H1 e' P
# c; g: C5 u2 H3 q! U( Y光学元件镀膜:电子枪最好,磁控溅射次之,蒸发镀最差。: }, J9 c9 W. L& W0 O( ~) p7 L+ ^4 b
建筑汽车玻璃和ITO:磁控最好。6 ~( r3 |' F- w2 H
耐磨损膜:磁控溅射和多弧镀互有优势,磁控可做精密件,多弧镀膜结合力更好。 |
|