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发送离子源资料并在线讨论答疑。欢迎讨论离子源的技术问题。有问题请联系：nanovac@gmail.com。我会尽量回答提出的问题。回答不出来或错了，也有这个论坛其他大侠指正。& k: d# \' E( E s( |
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下面一段是我一两年前在中国真空网（www.chinesevacuum.com）原创的。但是被镀膜行业其它朋友转来转去。现在又拿回来，算是借花献佛。" M0 [3 ?' q' B( I$ y$ Y& O
3 j7 ~8 H% R; K* ~离子源在我国应用得越来越多。但相对真空镀膜用户还是比较陌生。比如有什么不同种类？各种离子源又有何特点。那些真空镀膜工艺非离子源不可；那些镀膜工艺只是锦上添花；而那些镀膜场合离子源只是点缀。等等。希望各位大侠和前辈参加讨论- J) O. _) b# j6 \, }6 p
据说离子源起源于星球大战的美苏竞争。理论计算表明离子源作空间推进器能量密度大于常规液氢推进器。美国的研究以美国宇航局的Kaufman教授的栅格式离子源（现在这类离子源仍叫Kaufman离子源）为主，而苏联则以终端霍尔离子源为主。据说苏联技术优先一些。总共有几百台离子源在实验室或空间做过实验或试飞行，直到去年欧洲宇航局还在实验离子源推进器。3 Q% [" m+ {2 d, ]5 }) ?
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在离子源推进器实验中，人们发现有推进器材料从离子源飞出，这就开始了离子源在材料，特别是材料表面改性的应用。
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, @$ F( I! h/ j7 p o+ w |离子源的另一个重要应用是高能物理。具体就是离子加速器。简单地说就是用一台离子源产生某种材料的离子，这个离子就在磁性环路上加速，从而轰击一个靶，产生新的物质或揭示新的物理规律。
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% B% I( ?: Z4 |, m u离子源种类较多。主要有:
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kaufman离子源
( y3 T& {$ C8 |& j3 V3 b7 b0 D F- B射频离子源
3 r! z1 @- @# }' I% s: g2 S霍尔离子源
! z0 O# V& e/ M! l. B冷阴极离子源4 l F: g8 l, b7 W# S3 T
电子回旋离子源, b1 K) Z1 P; u1 u
阳极层离子源" {5 n, c( B, y! `' ?
感应耦合离子源; D; F1 _* A# B) |2 P2 S+ r
+ F! r9 B, x* i; t8 I+ f$ m& s可能还有很多其它类型离子源未被提到。1 p5 H2 L2 E; w; l6 d' v8 j
4 h3 H; d; C8 d4 r3 d0 o) Q7 j离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。
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若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。" f& @. s' W3 q) i# o+ y# h
; o& B- i5 `/ R( Q2 y5 v% t阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于高级光学镀膜并不太多。
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考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。2 x+ A4 V1 y( K. ^4 y4 y+ F
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霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。霍尔离子源的特点是：
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) b, o$ B; s; h7 k, g) R8 U! f1简单耐用。
6 v! l! j$ ?4 }6 K2离子电流与气体流量几乎成比例，可获得较大离子电流。/ Q) H! @+ I X0 `
3钨丝一般横跨在出口，收离子束冲击很快会销蚀，尤其对反应气体，一般十几个小时就需更换。并且钨丝还会有一定的污染。
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为解决钨丝的缺点。有采用较长寿中和器的，如一个小的空心阴极源。* s2 d0 m+ Q6 g3 a
" `3 L% d; N1 O+ m- Q霍尔离子源可以说是应用最广泛的离子源。高级的如Veece的Mark I 和 Mark II 离子源。适用的如国产的大部分离子源。/ `" ^9 u r4 h2 H6 z# ?$ x+ l" S
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如果镀耐磨装饰膜，膜厚大，需要与机体结合力强，而均匀性要求不高。可用霍尔离子源。其离子电流大，且离子能级也高。如果是镀光学膜，则主要要求离子电流能级集中，离子电流均匀性好。故最好用Kaufman或RF离子源，有条件的可采用ECR（电子回旋）或ICP(感应耦合)离子源。另外，也要考虑到耗材，如用钨丝的霍尔源在反应气体中十来个小时就烧断了。而高级离子源如ICP离子源可在反应气体中连续工作几百小时。; S- b+ f1 P' v$ I- o' O+ l8 d" d
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镀灯具铝膜。因为是金属膜，当然是直流磁控溅射好。速度快。中频适合镀化合物膜。如果选离子源，霍尔离子源就够了。但要注意你的灯具大小。一般霍尔离子源是圆形，离子源覆盖的面积有限。你一定要用离子束将工件全部覆盖到。若普通霍尔离子源太小，可考虑用阳极层离子源。
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% L4 y0 @" {1 J9 ^) C莱宝APS1104光学镀膜机可以说是目前国内镀膜界的王牌。这个镀膜机主要是两台电子蒸发源何一台APS离子源组成。其APS离子源可以说是镀膜机的心脏，其结构十分独特。首先它是Kaufman型离子源，但其阴极不是常用的钨丝，而是昂贵的LaB6材料。另外其磁场不是由永久磁铁产生，而是由电磁线圈产生。
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从参数来看，其磁场较弱，功率也不大，但其显著特点是在被镀工件上产生的温度低，其各项参数调得使成膜时热力学平衡好，成膜致密。可以说目前国内高档光学镀膜全*莱宝机，尽管其价格远远高于其他镀膜厂家。莱宝APS实在独特，它不用永久磁铁而用电磁铁（电磁铁多要一套真空电路系统）。结构看起来很“苯”。但事实上性能却特别好。莱宝APS镀膜机之所以走俏，APS离子源（或邓离子源）起了很大作用。
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离子源难起辉的一个原因是磁场太弱激发不起等离子体。离子源的种类虽多，但基本上是先产生等离子体，然后从等离子体中抽出气体离子并加速成离子束，让后视需要注入电子中和离子流。. i. s# ]7 e- y: @" O( \7 R* l
- q& c0 e" A$ ]% {" A8 r2 ?( J现在国内离子源阴极一般都用钨丝，很简单方便。但需要定期更换。尤其是光学镀膜时用氧气，钨丝一般只能用10个小时左右。另外钨丝烧蚀会污染膜层。 |
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发表于 2007-10-13 11:09:31
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