求助640nm~900nm,R<0.8%，K9基片怎么设计啊？

zhangqy · 发表于 2007-9-28 00:56:02

要求在640nm～900nm，R<0.8%怎么镀啊

谢谢！

显示全部楼层 · 发表于 2006-1-6 05:41:53

TIO2    16.64
SIO2    52.90
TIO2    170.01
SIO2    155.59
SIO2    110.53
TIO2    68.43
SIO2    40.90
TIO2    37.38
SIO2    156.48
TIO2    35.06
SIO2    31.44
TIO2    89.33
SIO2    128.84

zhangqy · 发表于 2007-9-29 01:11:18

谢谢gds，我知道了！
非常感谢你的热心！
由衷敬佩你的业务水平！
向你学习！

jzbb · 发表于 2007-11-1 03:26:59

需要这麽多层吗

hhggiu · 发表于 2007-11-1 05:32:00

bu haoya na me duo ceng

jlgdkj · 发表于 2008-1-6 21:38:06

三层的应该是这样的吧

显示全部楼层 · 发表于 2008-1-7 02:33:27

3层需要加温,工艺不好控制

jlgdkj · 发表于 2008-1-13 20:08:41

加温没有困难啊 270就可以工艺到还可以比较好控制 (光控)

guoaihong · 发表于 2008-12-12 02:09:09

用3层膜足可以做好

999520 · 发表于 2008-12-12 23:10:37

最多只要三层，用氧化铝，氧化锆钛，氟化镁，2【M2HL].控制波长在400纳米左右。基底温度在250左右。氧原子充2.8X10-2.这还用问啊？

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