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我是从事触摸屏生产技术.在工艺改善过程中,遇到如下几点问题,不得其解,望高手解答:& C2 ?6 K' ]' B1 J/ x5 ]
1.我们上线ITO材料薄膜,在经过高温缩水后(150 60SEC)之后,表面的膜面阻测试OK
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* i/ d# s" w! P 2.在产品组成成品之后,客户处反馈产品线性不良.经分析为ITO膜面阻有变化,且有规律性,中间 小 边缘大
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" e2 b* {( N+ \; B4 V 我想请教的是,膜在高温缩水后,在一段时间之后,有没有扩伸的趋势.0 \+ h. J2 _6 }$ A$ I/ w
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缩水会不会改变ITO的结晶结构,会发生什么变化,及影响
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以上帮助为谢!!! |
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