氮化铝薄膜的光学性质(英文) / w6 }5 _5 f. j7 w9 x2 a, h/ ]6 y1 o
' J, T9 r: C v& J6 M+ ~+ P7 j* r" f【作者】 刘文. 王质武. 杨清斗. 刘毅. 卫静婷. 唐伟群. .
3 s0 X$ A& N w- p' N( ]【刊名】 硅酸盐学报 2007年05期 编辑部Email $ b) H2 F2 x5 v9 t2 K) M' D1 A# g5 A
《中文核心期刊要目总览》来源期刊 “中国期刊方阵”入选期刊 ASPT来源刊 CJFD收录期刊 ' }1 R9 X, U! b8 z, C) u) A' O
【机构】 深圳大学光电子学研究所 广东省光电子器件与系统重点实验室. 光电子器件与系统教育部重点实验室. 深圳大学师范学院. 深圳518060.
) y' U% k; d: T9 Q+ K+ k【关键词】 氮化铝. 石英衬底. 折射率. 吸收系数. 透射光谱. 6 I7 K9 \2 b6 M1 X( D
【聚类检索】 同类文献 引用文献 被引用文献
! d& v: a4 }8 A【摘要】 采用直流磁控溅射法在石英衬底上制备了氮化铝(AlN)薄膜。用 X 射线衍射仪分析了薄膜结构。利用椭圆偏振仪和紫外/可见/近红外分光光度计对 AlN 薄膜进行了相关光学性能的研究,获得到了薄膜的折射率随波长的色散关系曲线。在波长为 250～1 000 nm,薄膜的折射率为 1.87～2.20。结合透射光谱图,分析了 AlN 薄膜的光学性质。结果表明:利用磁控溅射方法可以获得(100)择优取向 AlN 薄膜;AlN 薄膜在 200～300 nm 远紫外光范围内具有强烈的吸收,在 300～1000 nm 波长范围内具有良好的透过率。 3 u# S3 m t' g) C' f/ H
【光盘号】 SCTB0706 |
发表于 2007-8-31 20:27:54
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