定制高端激光薄膜

光学薄膜论坛

 找回密码
 注册
搜索
本站邀请注册说明!
查看: 1002|回复: 0

[原创] 电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性

[复制链接]
gds 该用户已被删除
发表于 2007-8-6 10:56:43 | 显示全部楼层 |阅读模式
[/free]电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性熊胜明[1] 唐晋发[2] 等[1]中国科学院光电技术研究所,四川成都610209 [2]浙江大学摘 要:研究了反应电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为了找到能减小多层膜结构内应力的淀积工艺参数,测试了氧化物膜层TiO2,Ta2O5,SiO2,Al2O3,HfO2的应力,发现有些膜层为压应力,一些高折射率膜为张应力。实验表明,热处理可以有效地降低氧化物膜层光学吸收,并改变应力。

关键词:光学薄膜 热处理 电子束蒸发 氧化物 应力特性
分类号: O484.4文献标识码:文章编号:栏目信息:
相关文献:主题相关
[free]
购买主题 本主题需向作者支付 12 RMB金钱 才能浏览
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

本站邀请注册说明!

小黑屋|手机版|Archiver|光学薄膜信息网  

GMT+8, 2024-6-19 02:56 , Processed in 0.038344 second(s), 21 queries .

Powered by Discuz! X3.4 Licensed

Copyright © 2001-2021, Tencent Cloud.

快速回复 返回顶部 返回列表