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[讨论] 磁控溅射在玻璃上镀TIO2的问题

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发表于 2007-8-1 15:50:16 | 显示全部楼层 |阅读模式
请教各位大侠:$ g  N$ E) \% l7 P  N! c4 I
      我在镀TIO2时,为什么沉积速率提不起来呢?
0 J0 r3 z5 h$ l' x" W     

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发表于 2006-1-6 05:41:53 | 显示全部楼层
是不是温度不够啊
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发表于 2005-12-29 13:07:58 | 显示全部楼层
有可能
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发表于 2007-8-14 03:10:40 | 显示全部楼层
是蒸发镀还是溅射镀
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发表于 2008-4-17 15:15:45 | 显示全部楼层
是采用反应溅射吧?
# d& t. n  L. ]- E# l! B+ i那你有没有装离子监控设备控制反应?5 Y# @5 Z% p" M4 r% p6 g5 v3 z: |9 y
最大的可能是氧气配比不对
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发表于 2008-4-24 20:39:35 | 显示全部楼层
肯定是靶中毒了呗
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发表于 2008-4-25 12:26:12 | 显示全部楼层
氧气多了   
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发表于 2008-10-24 14:38:30 | 显示全部楼层
你指的起不来是多少?
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