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[讨论] 磁控溅射在玻璃上镀TIO2的问题

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发表于 2007-8-1 23:50:16 | 显示全部楼层 |阅读模式
请教各位大侠:
, |( D/ F; _& S: w- a1 Y3 W      我在镀TIO2时,为什么沉积速率提不起来呢?& m0 y; ]- j! j% _. I7 D
     
发表于 2006-1-6 13:41:53 | 显示全部楼层
是不是温度不够啊
发表于 2005-12-29 21:07:58 | 显示全部楼层
有可能
发表于 2007-8-14 11:10:40 | 显示全部楼层
是蒸发镀还是溅射镀
发表于 2008-4-17 23:15:45 | 显示全部楼层
是采用反应溅射吧?* z/ o1 g' y/ `1 C. j, B- o
那你有没有装离子监控设备控制反应?- T: s; P2 M2 U0 v0 E( H% x
最大的可能是氧气配比不对
发表于 2008-4-25 04:39:35 | 显示全部楼层
肯定是靶中毒了呗
发表于 2008-4-25 20:26:12 | 显示全部楼层
氧气多了   
发表于 2008-10-24 22:38:30 | 显示全部楼层
你指的起不来是多少?
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