光学系统消杂光技术

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光学系统消杂光技术
0 I6 r4 _0 ^& v$ f0 A  t" H7 x) a2 `6 X光学系统消杂光技术杂散光的概念
2 M6 \) z* G  `3 e8 X笼统地说就是光学系统中除了成像光线外，扩散于像面上的其它非成像光线。它包括来自系统外部的辐射源(如阳光、地气光等)和内部辐射源(如光学元件、结构件等各折射面的反射光、仪器内壁的反射光等)以及散射表面的非成像光能量。
! L: \( p: N  V) q! @杂散光危害
使像面产生明亮背景，降低像面对比度和调制传递函数；使整个画面的层次减少，清晰度变坏，严重时会形成杂光斑点。
$ K; K1 W0 V: {) |! U抑制杂散光的方法：
# X) P! }+ [; c8 _重复设置消杂光光阑，设置消光筒，外露的所有表面发黑处理、仪器腔体内壁发黑等可增强消除杂散光（辐射）的效果，除此之外各光阑和机械零件均需进行发黑处理．个别场合需使用消光器件（光陷阱）。
3 ~) C* Y2 B& Z; r所有这些都离不开发黑处理技术。需要说明，发黑是指对工作波长区域的吸收率特别高，并且具有无光泽或微光泽特性。许多发黑技术或产品只对可见光有效，红外则反射率超过80%以上。
% H! v; K" t, F1 }8 y- ZAvian发黑技术和产品：
. {0 Z% a1 ^% b; d/ {Avian Black-S  UV-Vis-NIR波长范围内反射率<3.5%，可喷涂
, z* f. @* q/ L4 f+ \5 YAvian-DS Black 是最近20年里我们发现的最黑的材料，可见光区反射率<1%
. ]2 |; b2 f! P& Y2 i; W4 HAvian-EP Black  该涂层在7-8 microns仍然有很好的吸收特性