看看我的工藝有什麼問題????

ytmyvi

基底1.514   樹脂    膜材SIO2,OS-50    4層膜系OS-50+SIO2+OS-50+SIO2   烘烤溫度50度   晶控    要求:420--680透過平均98%以上   現象:前一天的分光還是好好的第二天透過率就達不到了,波形沒有變化只是透過率低了差不多兩個百分點...事后我更換了新膜料結果沒有變化,,,,我懷疑是不是膜層吸收了,這邊分光儀只能測透過不能測反射.所以也不知道是不是
還有SIO2的折射率是不是不用試驗直接取1.45就可以了是嗎??但是我做了一下就1.52---1.53呢!!OS-50的折射率有2.3--2.4這正不正常呀!!

ytmyvi

OS-50充O2     手動充的看真空計我的起始真空是3.0E-3充到1.0E-2
1 s9 a2 I( |: H4 _  c6 R  fSIO2不充  不過每次在鍍SIO2時差不多真空度都在4.5E-3有時候還會更高
這會不會也有影響

cyhung

一、有可能是漏氣
二、氧氣給的不足，請找出你前一次鍍後正常之ｄａｔａ，看當時的真空壓力及Ｏ２給的流量，
比對現在之數值有沒有差異，正常建議除了看壓力值外也要看ｍｆｃ的流量，這樣比較保險，畢竟
誰也不能保證真空計的讀值是否是準確的。

希望可以幫的上忙。

dyfdudu

可能是真空室内沉积物多，我碰到的现象是连续生产内壁脏镀SIO2时真空差，可试着清内壁。