宽束离子源的均匀性分析

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宽束离子源的均匀性分析摘　要:在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。通过测试宽束离子源束流密度的空间分布，研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素；加速电压和E／B。结果表明，随着加速电压的增加，离子束束流密度的分布趋向均匀；而E／B对离子束均匀性的影响不大。

* [! ?; M: D- n+ z关键词:离子束溅射 离子源 均匀性 光学薄膜