热处理温度对静电自组装PDDA/SiO2光学薄膜的影响

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热处理温度对静电自组装PDDA/SiO2光学薄膜的影响


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　　摘 要： 以正硅酸乙酯(Ethyl Silicate，TEOS)为原料，乙醇为溶剂，NH3·H2O为催化剂，制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶。在低折射率(1．45)的玻璃基片上用静电自组装(Electrostaric SelLassembly Multiplayer，ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机／无机复合层状薄膜。然后对其进行热处理，研究了不同温度热处理对薄膜结构、组成、折射率、机械强度、激光损伤阈值以及光学性能的影响。得到了经520℃热处理后折射率为1．27、激光损伤阈值为68J／cm2、520nm处的透光率为99．0％、抗机械损伤强度大的SiO2光学增透薄膜。但最大的透光率是400℃热处理后520nm处的透光率为99．2％。
' C# Z+ {0 R" _; L　　关键词： SiO2； 静电自组装； 热处理； 增透膜