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上海纳微真空技术有限公司间接冷却磁控溅射靶采用国外先进技术设计，国内精心制造。可广泛应用于光学，半导体，各种传感器，平面显示器，装饰，耐磨损镀膜工艺。磁控靶包括圆柱靶和直线靶。圆柱靶从2.5厘米到20厘米。直线靶可长达150厘米。并可按用户特殊要求定做溅射靶。除标准靶外，还可提供超高真空（全金属陶瓷）靶，以及多靶溅射平台。
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主要技术指标和特点： U- e: K* D, m8 {' _
( O& I0 _5 E$ D) h, `1. 不用改装即可适应直流，射频，中频，和脉冲溅射镀膜。
/ B" {: U& v2 C3 J( I4 y, J: R& S2. 可适用于不同厚度的靶材。
! r$ t# w- R% I3. 可溅射磁性和陶瓷靶材。9 Y' Y' A# @% P! U3 U
4. 溅射速率高。不均匀性<5%。
& K4 A( ^' k" j/ M2 H* B% i5. 间接冷却效率高。, F) H" ]9 t) o( x
% c% ]- P4 A4 n可替代各国进口磁控溅射靶
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上海纳微真空技术有限公司 ' q% s* _) [( L
电话：021-27977643 (华经理） $ G5 E3 X& x9 ^$ J
传真：021-62519389! K b: P% m% o
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发表于 2007-3-23 22:33:48
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