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基于ANSYS的二维谐性磁场分析+ M/ b( R# Y) Q% x
o) C$ h# m `# U0 a6 ]: I【论文题名】 基于ANSYS的二维谐性磁场分析 $ n6 \6 h5 d$ [; h+ r3 _# [4 l9 m
【英文题名】 Two-dimension compatible magnetic-field analysis based on ANSYS
; J4 Y4 O/ R# a e% [ F% b【作 者】 LI Long-kui SU Jun-hong XU Jun-qi WANG Xiao-dan - r2 R: Q( l* f% t
【作者单位】 西安工业学院,陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西,西安,710032;西安工业学院,陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西,西安,710032;西安工业学院,陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西,西安,710032;吉林大学,生物与农业工程学院,吉林,长春,130022 4 |1 x8 v! n, u6 N
【刊 名】 应用光学
* q ~7 y7 B" ~! D【英文刊名】 JOURNAL OF APPLIED OPTICS
# F# \$ m) A6 M+ {4 J+ Y【年 卷 期】 2005 Vol.26 No.6 - [3 Z/ Z9 o" e5 d0 R
【关 键 词】 ANSYS软件；谐性磁场；有限元法 - z3 `% U3 c# r5 _5 D c+ `. f
【摘 要】 非平衡磁控溅射镀膜机中的磁场分布对镀膜有着重要的影响.介绍一种利用有限元法求解非平衡磁控溅射镀膜机中带电线圈所产生的磁场的方法.根据电磁场理论,推导出求解带电线圈所产生的磁场的计算模型,利用基于有限元法的ANSYS软件对非平衡磁控溅射镀膜机中线圈所产生的磁场分布进行了数值模拟.通过与实测值进行比较,验证了计算模型和计算结果的可靠性.总结了非平衡磁控溅射镀膜机中的磁场分布情况,为优化镀制薄膜设计方案和提高薄膜质量提供了参考依据.
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发表于 2007-3-10 17:05:36
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发表于 2007-3-25 14:00:33
