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光学薄膜基本理论及技术
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" }/ i5 z/ N+ v 光学薄膜应用于各种反射和投射光学元件，常用的典型光学薄膜的例子有： 减少光在元件表面反射的增透膜；使光在给定波长范围内透过的滤光片窗口；在反射镜中使用的高反射膜等。 , n/ j) u' f; e0 g( t) O
A* e$ |" K6 W( X' ~2 F 如果入射光有角度，光通过元件时将产生偏振，光学薄膜可以针对入射角度、S偏振光、P偏振光和随机偏振光进行设计。如果光学薄膜按照0度入射光进行设计，就不能在45度表现出我们预期的光学性能。
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光学薄膜的镀制是通过在元件表面沉积介质和金属材料如SiO2,TiO2, 或铝，典型的薄膜其每一层的厚度相当于1/4所使用的波长，高折射率的材料和低折射率的材料交替沉积，产生所需要的干涉效果。 8 s. @2 B1 p" V* m; S' } h5 B
% v( R% s: b1 n4 y4 p2 W光学薄膜技术：
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+ ~1 j/ ^1 a% aIBS： 离子束溅射，由离子源产生带能量的离子，溅射到基片表面。
" _* S7 k8 s* U: R. q4 tPVD: 物理蒸发沉积，通过电子枪作用于镀膜材料上， 产生电子束，均匀沉积于镀膜元件上。: B7 O( s x9 @% X9 M
) q1 Q% u" u8 ?/ B" {( w相关名词：
1 s! D2 Q& G4 B N, ]) w
' x* i, z- p$ o3 K9 K 石英晶体膜厚控制（Crystal Thickness Control)：石英晶体的重量的微小变化将会导致其振荡频率的变化，因此，在镀膜过程中，我们把石英具体探测头置于真空室内，通过石英晶体的频率变化来控制镀膜的厚度。
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. [0 n6 q3 n I" u j+ h8 Z! V2 T 介质（Dielectric)：从紫外、可见到近红外波长都有较高的透过率（很小吸收）的材料称为介质材料。- |# P8 }# j( l5 [! ?2 V" p( X& b3 r
; V$ V k; d( o% \, O% U- V' x) V- }' n 光学监控（Optical Monitoring)：在镀膜过程中，直接测量置于真空室内的比较片的反射或透射的设备。在一些情况下，光控有比较高的测量精度。
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光学薄膜（Thin Film)：任何在光线透过或反射时产生增加或减少干涉效果的薄膜。 |
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发表于 2006-3-2 17:56:46
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发表于 2006-3-7 05:15:08
