辅助镀膜用K系列强流宽束考夫曼离子源

xx_912 · 发表于 2007-3-7 02:14:10

辅助镀膜用K系列强流宽束考夫曼离子源
文章介绍了新型K系列多会切场强流宽束离子源(MCLB-8,16,18).由于采用新型多会切磁场和优化的引出系统,该系列源在薄膜辅助沉积的能量(200～1000eV)范围内,具有良好的低能特性和束流分布均匀性,可使用反应气体或惰性气体工作.因此该系列源可用于各种高性能薄膜制备的大面积辅助沉积,也可用于制备大面积类金钢石膜(DLC).文中介绍了该系列源的结构及性能.

zkz · 发表于 2007-3-16 03:06:06

好象下不了，我是下了2次没下来

zyp · 发表于 2007-3-16 03:10:48

可以下楼上再试试

yuancy · 发表于 2011-4-22 11:38:19

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辅助镀膜用K系列强流宽束考夫曼离子源

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