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[求助] 晶振所测厚度不稳定

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发表于 2007-2-10 05:37:29 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位大虾,* V" _) j/ ~9 m2 G- I& P

5 V6 ^0 R& @/ ~4 k* I" p8 E2 K我现在用蒸镀机是Kronos的QM-311 thickness monitor,镀的MgF,但是同一条件下镀出来厚度极不稳定,monitor 上0.8kA,实际厚度可能是36uinch,12uinch....请问一下这种不稳定的情况是什么原因造成的,是否和晶振类型有关?我用的是gold type的晶振,需不需要用alloy type的呢?% {+ s0 b+ A* j( r) ?1 g
1 r6 }+ G/ _+ |" K" L
紧急!( f. K+ T7 K! e0 z

* a' B: |# N  Y. r2 c: I谢谢!
发表于 2007-2-26 05:05:56 | 显示全部楼层
晶控仪不适合控制MGF2,每镀一次要换晶片,如果与别膜料交替,可以多几层.
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