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[求助] 晶振所测厚度不稳定

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480
发表于 2007-2-9 21:37:29 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位大虾,/ o* F' t! Z; o1 L/ d0 r
- @/ \' r+ a3 c+ ]7 J
我现在用蒸镀机是Kronos的QM-311 thickness monitor,镀的MgF,但是同一条件下镀出来厚度极不稳定,monitor 上0.8kA,实际厚度可能是36uinch,12uinch....请问一下这种不稳定的情况是什么原因造成的,是否和晶振类型有关?我用的是gold type的晶振,需不需要用alloy type的呢?8 j- P4 I; Y8 i: i; p3 F4 B

. ]8 U: N* x6 T. ^紧急!; K. \& w1 u2 A* U
$ q% T6 B+ z, W+ r1 B# m1 W2 W
谢谢!

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318
发表于 2007-2-25 21:05:56 | 显示全部楼层
晶控仪不适合控制MGF2,每镀一次要换晶片,如果与别膜料交替,可以多几层.
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