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【篇名】 薄膜干涉在检查光学元件表面时应用的分析与探讨
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% c8 R& X2 X$ \【作者】 郭小花. . + y0 l9 [& G9 J) Z: n( |
【刊名】 科技资讯 2006年25期 编辑部Email
[3 M4 s2 A6 ?: X" k6 s CJFD收录期刊 H- v% ~5 C. D$ e8 I
【机构】 天水师范学院数信学院 甘肃天水741001.
/ E. I) Y0 `9 E3 k/ A1 T【关键词】 光学元件. 干涉条纹. 被检表面. 样板. . f. A3 A% N) t2 P. s3 Y! g
【聚类检索】 同类文献 引用文献 被引用文献 ( D, \ y/ J. a* o' m, @7 `( a
【摘要】 在制造光学元件时,常常需要得到十分精确的平面、球面等,为此我们必须检查元件表面的质量,最简单的方法是用样板检验。我们通过观察干涉条纹的形状来判断被检表面的缺陷,从而进行相应的磨制,最终达到我们的标准要求。 & q, x0 U y- O7 b/ ]1 s
【光盘号】 SCTA0611S1 |
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发表于 2007-1-4 03:36:22
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